[实用新型]电感耦合等离子体线圈及等离子体注入装置有效

专利信息
申请号: 201120527128.5 申请日: 2011-12-15
公开(公告)号: CN202384293U 公开(公告)日: 2012-08-15
发明(设计)人: 窦伟;李楠;李超波;夏洋 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 刘丽君
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 电感 耦合 等离子体 线圈 注入 装置
【权利要求书】:

1.一种电感耦合等离子体线圈,其特征在于,包括:

两组折回而成的射频线圈;

两组所述射频线圈的空间结构采用平面蛇形并联的方式,且在空间分布上严格对称。

2.如权利要求1所述的电感耦合等离子体线圈,其特征在于:

两组所述射频线圈由半径为1mm-10mm的空心铜管制成。

3.如权利要求1所述的电感耦合等离子体线圈,其特征在于:

两组所述射频线圈的一端相连,另一端不相连。

4.一种电感耦合等离子体注入装置,其特征在于,包括:

权利要求3所述的电感耦合等离子体线圈、匹配网络、移相器及第一互补功率源;

所述第一互补功率源分为两路,一路通过匹配网路与所述电感耦合等离子体线圈不相连端的一侧射频线圈连接,另一路依次通过所述移相器、匹配网络与所述电感耦合等离子体线圈不相连端的另一侧射频线圈连接。

5.如权利要求4所述的电感耦合等离子体注入装置,其特征在于,还包括:

反应腔室、基座及第二射频偏压功率源;

所述反应腔室设置有进气口与出气口;

所述基座设置在所述反应腔室内与所述第二射频偏压功率源连接。

6.如权利要求5所述的电感耦合等离子体注入装置,其特征在于:

所述电感耦合等离子体线圈设置在所述反应腔室内。

7.如权利要求6所述的电感耦合等离子体注入装置,其特征在于,还包括:

石英管,所述石英管设置在所述电感耦合等离子体线圈外围。

8.如权利要求7所述的电感耦合等离子体注入装置,其特征在于:

所述石英管是直径为4mm-30mm,厚度为1mm-5mm的空心石英管。

9.如权利要求8所述的电感耦合等离子体注入装置,其特征在于:

所述电感耦合等离子体线圈与所述石英管之间留有间隙。

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