[实用新型]一种真空室中、底部槽连接密封结构有效
申请号: | 201120534960.8 | 申请日: | 2011-12-20 |
公开(公告)号: | CN202450116U | 公开(公告)日: | 2012-09-26 |
发明(设计)人: | 刘敏;刘伟;许海亮;温荣宇;张洪峰;武学勇;杨涛 | 申请(专利权)人: | 鞍钢股份有限公司 |
主分类号: | C21C7/10 | 分类号: | C21C7/10 |
代理公司: | 鞍山华惠专利事务所 21213 | 代理人: | 赵长芳 |
地址: | 114021 *** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 底部 连接 密封 结构 | ||
技术领域
本实用新型属于精炼设备领域,具体涉及一种用于防止真空循环脱气炉(RH炉)真空室中部槽与底部槽连接处泄漏的密封结构。
背景技术
在RH炉生产过程中,真空度是影响处理效果的关键参数之一,其直接关系到RH最终的脱碳效果,关系到RH处理时间及产品质量。然而,随着真空室使用次数的增加,发现在前三罐测试和生产中个别会出现中部槽与底部槽法兰连接处泄漏现象。而一旦出现泄漏,就不得不停止对真空室的烘烤,下线重新把紧中、底部槽之间的连接螺栓,从而造成生产的间歇和停顿。有时甚至采用紧固螺栓的方法仍无法解决连接处泄漏的问题。究其原因,主要是由于中部槽与底部槽连接法兰接触面存在变形,致使中部槽与底部槽连接法兰密封接触不严密,因此唯有出厂进行专业维修,不仅增加了费用支出,而且直接影响设备的作业率和生产的顺利进行。
发明内容
本实用新型旨在提供一种简单可行,能有效防止连接处泄漏,减少维修次数和费用,提高设备利用率的真空室中、底部槽连接密封结构。
为此,本实用新型采取了如下解决方案:
一种真空室中、底部槽连接密封结构,其特征是,在RH炉真空室中部槽连接法兰与底部槽连接法兰之间垫有一圈硅胶密封圈。
所述硅胶密封圈圈边宽度为40-45mm,厚度为2.5-3.5mm。
本实用新型的有益效果为:
由于在中部槽与底部槽连接法兰之间加垫了硅胶密封圈,有效提高了密封效果,即使在连接法兰稍有变形的情况下,也不会出现泄漏现象,实现了真空室整备合格率100%,真空度得到大幅度提高,8min真空度提升至0.2KPa比率达到100%,从而杜绝了因泄漏导致的生产停顿事故,极大减少了出厂维修频次,降低了维修成本,保证了生产的顺行。
附图说明
图1为RH炉真空室中、底部槽连接密封结构示意图。
图1中:中部槽1、中部槽法兰2、硅胶密封圈3、底部槽法兰4、底部槽5。
具体实施方式
由附图可见,中部槽1与底部槽5之间的连接是通过中部槽法兰2与底部槽法兰4实现的,中部槽法兰2与底部槽法兰4之间则采用螺栓紧固连接。本实用新型真空室中、底部槽连接密封结构是在真空室中部槽连接法兰2与底部槽连接法兰4之间加垫了一道环形的硅胶密封圈3。为确保密封效果,故选取的硅胶密封圈3的圈边宽度为40mm,厚度为3mm,将连接螺栓紧固后,即可有效防止中部槽连接法兰2与底部槽连接法兰4之间出现压力泄漏现象。
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