[实用新型]3D偏光眼镜用高抗污偏光片及其3D偏光眼镜有效

专利信息
申请号: 201120551032.2 申请日: 2011-12-26
公开(公告)号: CN202393934U 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 邱韶华;钱琨;陈敏 申请(专利权)人: 深圳市盛波光电科技有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/10;G02B27/26;B32B23/08
代理公司: 深圳市科吉华烽知识产权事务所 44248 代理人: 胡吉科
地址: 518109 广东省深圳市福*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 偏光 眼镜 用高抗污 及其
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及偏光镜片材料领域,尤其是涉及一种抗污性能优良的3D偏光眼镜用高抗污偏光片及其3D偏光眼镜。

背景技术

偏振式3D技术也叫偏光式3D,属于被动式3D技术,目前3D电影院、3D液晶电视等大多采用的是偏光式3D技术,其中圆偏振是新一代的3D偏振技术,眼镜技术比线偏振技术要复杂,但观看效果优于线偏振眼镜。但偏光眼镜在使用过程中,往往存在的问题是手垢、指纹、汗液、化妆品等附着在镜片上形成污渍,且这些污渍难于除去,进而影响观众观看3D影视的效果。

实用新型内容

本实用新型的目的之一是提供一种抗污性强的3D偏光眼镜用高抗污偏光片,该偏光片能有效抑制灰尘及油污等污垢附着在眼镜上,且易于将附着在眼镜上的污垢擦掉,同时还能够保持抗划伤性。

本实用新型的技术方案是:在普通立体偏光眼镜用偏光片的基础上复合上抗污薄膜,形成的偏光片从上到下依次包括:一抗污层、一1/4波片层、一原光片层、一抗污层,所述原光片层从上到下依次包括一第一三醋酸纤维素膜层、一聚乙烯醇膜层、一第二三醋酸纤维素膜层。

所述抗污层包括一透明支持体与一透明硬涂层。

所述1/4波片层的光轴与原光片层的光轴呈45°或135°角度粘合连接。

所述1/4波片层的厚度是40~60μm。

所述1/4波片层在589nm波长上的补偿值是110~150nm。

所述原光片层的单体透过率≥42%。

所述原光片层的偏振度≥99.5%。

所述透明支持体为聚丙烯酸酯树脂、聚环烯烃树脂、三醋酸纤维素和光学特性优良的其他薄膜。

所述透明硬涂层为聚丙烯酸树脂。

本实用新型还提供了一种3D偏光眼镜,包括镜框和镜片,所述镜片为抗污性强的3D偏光眼镜用高抗污偏光片,该偏光片能有效抑制灰尘及油污等污垢附着在眼镜上,且易于将附着在眼镜上的污垢擦掉,同时还能够保持抗划伤性。

本实用新型偏光片因复合有抗污层,可有效抑制灰尘及油污等污垢附着在眼镜上,且易于将附着在眼镜上的污垢擦掉,同时还兼有抗划伤功能。

附图说明

图1 为本实用新型所述的3D偏光眼镜用高抗污偏光片截面结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步详细说明。

如图1所示,本实施例所述的抗污立体偏光眼镜用偏光片,从上到下依次包括:一抗污层1、一1/4波片层2、一原光片层3、一抗污层4,所述原光片层3从上到下依次包括一第一三醋酸纤维素膜层5、一聚乙烯醇膜层6、一第二三醋酸纤维素膜层7,以上各层结构粘合连接。

本实用新型的原光片生产过程有干法与湿法两种,干法生产过程如下:在高温环境下,利用外力将PVA膜拉伸到所需的倍数后,然后进行膨润、染色、固色、烘干等工序,最后与TAC膜复合制成原光片;湿法工艺如下:PVA膜膨润后,直接进行染色,然后再拉伸、固色、烘干后,再与TAC膜复合制成原光片。优先选用湿法工艺制备。

所述1/4波片层2的光轴与原光片层的光轴9呈45°或135°角度粘合连接。

优选的是,所述1/4波片的厚度是40~60μm。

优选的是,所述1/4波片在589nm波长上的补偿值是110~150nm。

优选的是,所述原光片的单体透过率≥42%。

所述原光片的偏振度≥99.5%。

本发明的抗污层所使用的透明支持体可为:聚酯树脂、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚环烯烃树脂,三醋酸纤维素(TAC)。优选为聚环烯烃树脂、三醋酸纤维素,更优选为三醋酸纤维素。基材的厚度根据最终产品的需求,优选30-80μm。

本实用新型的制备方法是:将聚乙烯醇(PVA)膜经过纯水或加有硼酸的溶液膨润后,在含碘/碘化钾的水溶液中进行染色,然后通过压力辊转速不同使PVA膜单轴延伸,在延伸过程中PVA分子链定向排列,接着进行补色、固色、干燥等工序。延伸干燥后的PVA膜通过水溶性胶水在其两侧复合上三醋酸纤维素(TAC)膜作为支持体。通过压敏胶在一侧的TAC膜上依次复合上1/4波片与抗污层,另一侧的TAC膜上复合抗污层。其中1/4波片的光轴与原光片的光轴呈45°或135°角度。

综上所述仅为本实用新型较佳的实施例,并非用来限定本实用新型的实施范围。即凡依本实用新型申请专利范围的内容所作的等效变化及修饰,皆应属于本实用新型的技术范畴。

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