[实用新型]一种新型自动装卸硅片系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及自动控制领域，尤其涉及一种新型自动装卸硅片系统。

背景技术

PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)等离子体增强化学气象沉积是利用低温等离子体做能量源, 硅片置于低气压下辉光放电的阴极上, 利用辉光放电(或另加发热体)使硅片升温到预定的温度, 然后通入适量的反应气体, 气体经一系列化学和等离子体反应, 在硅片上形成固态薄膜。

在直接式PECVD设备中, 石墨舟作为硅片载体电极, 硅片必需放置在石墨舟上进行镀膜工艺。目前，主要采用人工或传统自动装卸硅片裝置以实现硅片的装卸，其中，人工裝卸硅片往往存在熟练度不夠, 控制力不佳等问题,容易造成人工成本提高、碎片率较高、表面污染较严重，而传统自动装卸硅片装置结构复杂，装卸硅片步骤繁琐，成本高，装卸产能低，不能满足工业化大量生产的要求。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于，提供一种结构简单、使用方便、成本低的新型自动装卸硅片系统，可有效地实现硅片的自动装置，降低装卸的碎片率，提高产能。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种新型自动装卸硅片系统，包括：用于装载硅片的花篮及石墨舟、用于固定所述石墨舟的可转向机构推车、用于提取硅片的机械手、用于控制所述机械手运动的升降机构、用于定位所述升降机构的PLC控制器；所述升降机构与所述机械手及PLC控制器分别相连。

作为上述方案的改进，所述可转向机构推车在竖直方向上翻转摆动。

作为上述方案的改进，所述可转向机构推车在竖直方向上顺时针翻转或逆时针翻转；所述可转向机构推车在竖直方向上翻转的角度为0°~90°。

作为上述方案的改进，所述可转向机构推车在水平方向上旋转。

作为上述方案的改进，所述可转向机构推车在水平方向上顺时针旋转或逆时针旋转；所述可转向机构推车在水平方向上旋转的角度为0°~360°。

作为上述方案的改进，所述花篮上设有吹气机构。

作为上述方案的改进，所述PLC控制器包括：用于控制所述升降机构产生沿X轴方向运动的X轴定位单元；用于控制所述升降机构产生沿Y轴方向运动的Y轴定位单元；用于控制所述升降机构产生沿Z轴方向运动的Z轴定位单元。

实施本实用新型的有益效果在于：采用新型自动装卸硅片系统替代人工装卸或传统自动装卸硅片裝置，降低了碎片率及硅片表面污染度。利用可转向机构推车固定石墨舟，并使石墨舟在竖直方向及水平方向上旋转运动。升降机构在PLC控制器的控制下实现精确定位并带动机械手提取硅片，将硅片依序装卸于石墨舟内。稳定性佳、使用方便, 在镀膜工艺完成后无需等待硅片冷却, 即能启动机械手装卸硅片，实现了硅片的高效、精确、自动装卸。

附图说明

图1是本实用新型一种新型自动装卸硅片系统的结构示意图；

图2是本实用新型一种新型自动装卸硅片系统的另一结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型作进一步地详细描述。

图1是本实用新型一种新型自动装卸硅片系统的结构示意图，包括：

用于装载硅片的花篮1。优选地，花篮1采用聚偏氟乙烯、聚四氟乙烯为原料，具有耐高温，高刚性，不易变形，不污染清洗液，装载硅片时不划伤硅片的特点。

用于装载硅片的石墨舟2。在直接式PECVD设备中, 石墨舟2作为硅片载体电极，硅片必需放置在石墨舟2上进行镀膜工艺。

用于固定所述石墨舟2的可转向机构推车3。工作过程中，石墨舟2固定于可转向机构推车3上，使石墨舟2与可转向机构推车3形成一整体，石墨舟2在可转向机构推车3的控制下产生旋转以调整石墨舟2的角度方便硅片的装卸。

用于提取硅片的机械手4，机械手4取代了传统的塑料吸盘，实现了硅片在花篮1于石墨舟2之间的传递，采用机械手4无需等待硅片冷却即可实现装卸，节省了大量的时间。优选地，机械手4选用纯度为99%氧化铝陶瓷制成，具有耐高温、耐腐蚀、耐磨损、耐高压的特性。

与所述机械手4相连，用于控制所述机械手4运动的升降机构5。

与所述升降机构5相连，用于定位所述升降机构5的PLC控制器6。

需要说明的是，利用PLC控制器6精确地对升降机构5实现定位，取代了传统单指令控制系统。另外，由于机械手4与升降机构5，在定位升降机构5的同时直接控制机械手4的动作，使机械手4的运作更加地快速、精确。