[实用新型]一种聚苯胺修饰薄膜电极有效

专利信息
申请号: 201120559225.2 申请日: 2011-12-28
公开(公告)号: CN202373460U 公开(公告)日: 2012-08-08
发明(设计)人: 潘士兵;范香翠;周桂明;桑晓明;邱桂花;于名讯 申请(专利权)人: 中国兵器工业集团第五三研究所
主分类号: H01G9/042 分类号: H01G9/042;H01G9/20;G02F1/155;H01M14/00;H01L51/44
代理公司: 济南舜源专利事务所有限公司 37205 代理人: 苗峻
地址: 250031 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 苯胺 修饰 薄膜 电极
【权利要求书】:

1.一种聚苯胺修饰薄膜电极,由导电基底和聚苯胺薄膜(3)组成,其特征在于:所述基底为表面带有金属网(2)的高分子薄膜(1)。

2.权利要求1涉及的聚苯胺修饰薄膜电极,其特征在于:所述聚苯胺薄膜(3)的厚度为0.2~10μm。

3.权利要求1或2涉及的聚苯胺修饰薄膜电极,其特征在于:所述金属网(2)不超过500目。

4.权利要求3涉及的聚苯胺修饰薄膜电极,其特征在于:所述金属网(2)介于20目~300目之间。

5.权利要求1或2涉及的聚苯胺修饰薄膜电极,其特征在于:所述金属网(2)选自铜、银、不锈钢网中的任意一种或混编金属网。

6.权利要求1或2涉及的聚苯胺修饰薄膜电极,其特征在于:所述高分子薄膜(3)选自聚酯膜、聚碳酸酯膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、聚丙烯膜中的任意一种薄膜。

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