[实用新型]研磨垫及研磨装置有效
| 申请号： | 201120571098.8 | 申请日： | 2011-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN202462207U | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 周维娜;王林松;刘庚申;董天枢 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种研磨垫，所述研磨垫的研磨表面具有若干同心的圆形沟槽，其特征在于，所述研磨表面上还具有若干从所述研磨垫的中心向四周发散的导流槽。
2.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述导流槽从所述研磨垫的中心向四周均匀发散分布。
3.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述导流槽是曲线。
4.根据权利要求3所述的研磨垫，其特征在于，所述导流槽是抛物线。
5.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述导流槽是直线。
6.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述导流槽具有内侧中心端和外侧发散端。
7.根据权利要求6所述的研磨垫，其特征在于，所述导流槽的外侧发散端延伸到远离研磨垫的中心位置的1/3～1/2的研磨垫半径范围内。
8.一种研磨装置，包括研磨头、研磨垫整理器、研磨平台与研磨垫，所述研磨垫铺设于所述研磨平台上，所述研磨头与所述研磨垫整理器分别设置于所述研磨垫上，其特征在于，所述研磨垫采用如权利要求1～7中任意一项所述的研磨垫。
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