[发明专利]曝光装置用光照射装置、曝光装置、曝光方法、基板制造方法、掩模和被曝光基板

权利要求书

1.一种接近曝光装置，具备：

用于保持作为被曝光材料的基板的基板保持部；

与上述基板相对置地保持掩模的掩模保持部；以及

照明光学系统，具有多个光源部、积分器、准直镜以及开闭器；该多个光源部分别包括发光部和使从该发光部发出的光带有指向性地射出的反射光学系统，该积分器供来自该多个光源部的光入射，该准直镜将从该积分器射出的光转换为大体平行光，该开闭器进行开闭控制以使来自该光源部的光透射或被遮断；

在上述基板与上述掩模之间设置有预定间隙的状态下，将来自上述照明光学系统的光经上述掩模对上述基板进行照射，其特征在于，

从上述多个光源部中的至少一个光源部射出的光，以主光轴通过偏离上述积分器的中心的位置的方式，入射到上述积分器上。

2.根据权利要求1所述的接近曝光装置，其特征在于，

上述照明光学系统具备能分别安装预定数量的上述光源部的多个暗盒和能安装该多个暗盒的支承体，

在上述各暗盒安装上述预定数量的光源部，以使从上述预定数量的光源部射出的光的各主光轴的交点大体一致，

在上述支承体安装上述多个暗盒，以使从上述各暗盒的预定数量的光源部射出的光的各主光轴的交点处于不同的位置上。

3.一种接近曝光装置，具备：

用于保持作为被曝光材料的基板的基板保持部；

与上述基板相对置地保持掩模的掩模保持部；以及

照明光学系统，具有多个光源部、积分器、准直镜以及开闭器；该多个光源部分别包括发光部和使从该发光部发出的光带有指向性地射出的反射光学系统，该积分器供来自该多个光源部的光入射，该准直镜将从该积分器射出的光转换为大体平行光，该开闭器进行开闭控制以使来自该光源部的光透射或被遮断；

在上述基板与上述掩模之间设置有预定间隙的状态下，将来自上述照明光学系统的光经上述掩模对上述基板照射，其特征在于，

在上述光源部的出射面附近，设置有用于调整从该出射面射出的光的强度的光强度调整部。

4.根据权利要求3所述的接近曝光装置，其特征在于，

上述光强度调整部是用于对包含上述出射面的中央部在内进行局部遮断的光圈。

5.根据权利要求3或4的接近曝光装置，其特征在于，

上述光源部具备分别包括上述发光部和上述反射光学系统的多个光源部，上述光强度调整部分别设置在上述多个光源部中。

6.根据权利要求5所述的接近曝光装置，其特征在于，

上述照明光学系统具备能分别安装预定数量的上述光源部的多个暗盒和能安装该多个暗盒的支承体，

上述光强度调整部是对各出射面以包含在上述暗盒内安装的上述预定数量的光源部全部的各出射面的中央部在内的方式进行局部遮断的光圈。

7.一种接近曝光装置，具备：

用于保持作为被曝光材料的基板的基板保持部；

与上述基板相对置地保持掩模的掩模保持部；以及

照明光学系统，具有多个光源部、积分器、准直镜以及开闭器；该多个光源部分别包括发光部和使从该发光部发出的光带有指向性地射出的反射光学系统，该积分器供来自该多个光源部的光入射，该准直镜将从该积分器射出的光转换为大体平行光，该开闭器进行开闭控制以使来自该光源部的光透射或被遮断；

在上述基板与上述掩模之间设置有预定间隙的状态下，将来自上述照明光学系统的光经上述掩模对上述基板照射，其特征在于，

在上述积分器的入射面，设置有用于调整向该入射面入射的光的强度的光强度调整部。

8.根据权利要求7所述的接近曝光装置，其特征在于，

上述积分器是纵横排列有多个透镜元件的复眼积分器或棒状积分器，

上述光强度调整部是包含上述各透镜元件的入射面的中央部在内地进行局部遮断的多个光圈。

9.根据权利要求1～8中任一项的接近曝光装置，其特征在于，

在上述光源部与上述积分器之间，设置有使来自上述光源部的光扩散的扩散透镜。