[发明专利]用于多个基材处理的分段基材负载

权利要求书

1.一种用于处理多个基材的设备，该设备包含：

腔室主体，该腔室主体界定处理体积，其中该腔室主体具有允许基材穿过该腔室主体的第一开孔；

基材支撑盘，该基材支撑盘安置于该处理体积中，其中该基材支撑盘具有形成于该基材支撑盘的上表面上的多个基材腔袋，各基材腔袋中容纳一基材，且该多个基材腔袋形成多个分段；以及

基材处置组件，该基材处置组件安置于该处理体积中，其中该基材处置组件相对于该基材支撑盘移动，以在与该基材处置组件对准的加载位置，自该些基材腔袋的分段拾取该些基材且使该些基材下降至该些基材腔袋的分段，且该多个分段中的每一个可对准于该基材处置组件。

2.如权利要求1所述的设备，其中该基材处置组件包含真空吸盘、伯努利吸盘、静电卡盘、或三个或三个以上经设置以抓取处置中基材的边缘的抓取指形件中的一个。

3.如权利要求2所述的设备，其中该基材处置组件包含三个或三个以上举升销，该些举升销安置于接近该腔室主体中的该第一开孔的该基材支撑盘之下，且各基材腔袋具有穿过该基材支撑盘所形成的以供该三个或三个以上举升销插入的三个或三个以上销孔。

4.如权利要求3所述的设备，其中各分段包含一个或多个基材腔袋，且在各分段中将该些基材腔袋配置为相同图案。

5.如权利要求3或4所述的设备，其中该基材支撑盘包含三个或三个以上的各基材腔袋中的罩盖，且各罩盖可移除地安置于相应销孔中。

6.一种用于处理多个基材的群集工具，该群集工具包含：

如权利要求1-5中任一项所述的第一处理室；

移送室，该移送室经由该第一处理室的该第一开孔有选择地连接至该第一处理室；以及

基材移送机器人，该基材移送机器人安置于该移送室中以加载及卸载该第一处理室中的该些基材，其中该基材移送机器人包括具有一个或多个基材腔袋的第一机械叶片，将该第一机械叶片中的该一个或多个基材腔袋配置为与该第一处理室的该第一基材支撑盘上的各分段中的该一个或多个基材腔袋相同的图案。

7.如权利要求6所述的群集工具，进一步包含连接至该移送室的第二处理室，其中该第二处理室包含具有形成多个分段的多个基材的第二基材支撑盘，且将该第二基材支撑盘中的各分段中的该些基材腔袋配置为与该第一机械叶片上的该些基材腔袋相同的图案。

8.如权利要求6或7所述的群集工具，其中该基材移送机器人进一步包含具有配置成与该第一机械叶片中的该一个或多个基材腔袋相同的图案的一个或多个基材腔袋的第二机械叶片，且该第一机械叶片及该第二机械叶片可独立地与第一或第二基材支撑盘上的分段对准。

9.如权利要求7或8所述的群集工具，进一步包含：

第三处理室，该第三处理室连接至该移送室，其中该第三处理室包含具有形成多个分段的多个基材的第三基材支撑盘，且将该第三基材支撑盘中的各分段中的该些基材腔袋配置为与该第一机械叶片上的该些基材腔袋相同的图案；以及

第四处理室，该第四处理室连接至该移送室，其中该第四处理室包含具有形成多个分段的多个基材的第四基材支撑盘，且将该第四基材支撑盘中的各分段中的该些基材腔袋配置为与该第一机械叶片上的该些基材腔袋相同的图案。

10.如权利要求9所述的群集工具，其中该第一基材支撑盘上的该些基材腔袋的数目是该第二基材支撑盘、该第三基材支撑盘和该第四基材支撑盘上的该些基材腔袋的数目的两倍。

11.如权利要求10所述的群集工具，其中：

该第一处理室为经设置以形成N-型GaN(N-型掺杂GaN)层的有机金属化学气相沉积(MOCVD)腔室；

该第二处理室为经设置以形成多量子阱(MQW)层的有机金属化学气相沉积腔室；

该第三处理室为经设置以形成多量子阱(MQW)层的有机金属化学气相沉积腔室；以及

该第四处理室为经设置以形成P-型GaN(P-型掺杂GaN)层的有机金属化学气相沉积腔室。