[发明专利]开关无效

专利信息
申请号: 201180002141.1 申请日: 2011-03-16
公开(公告)号: CN102714113A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 飞田孝吉;森田和明 申请(专利权)人: 欧姆龙株式会社
主分类号: H01H35/00 分类号: H01H35/00;H01H21/28
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人: 杨勇;郑建晖
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 开关
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种开关,所述开关设有将根据外力而移位的移位构件,所述开关用于根据所述移位构件的位置来输出信号。

背景技术

通常,已知如下的限位开关:一旦检测到物体(诸如待加工的产品)移动到工厂的生产线中的一个预定位置,则所述限位开关就自动启动加工机器(参见非专利文献1)。

这种限位开关设有将根据外力而移位的移位构件,并且根据所述移位构件的位置来输出信号。因此,在专利文献1和2中,提供了如下的接触机构:一旦移位构件位于一个预定位置,则所述接触机构就会与所述移位构件形成接触,并且基于所述接触机构中是否存在电接触来检测所述移位构件的位置。在专利文献2中,提供了多个接触机构来检测移位构件的多个位置。

在移位构件的位置如专利文献1和2中一样由接触机构检测的情况下,由于组成接触机构的构件的尺寸多样性,所以在由接触机构检测到的移位构件位置和期望的移位构件位置之间可能会产生差异。因此,在专利文献2中,提供了一种调整螺钉以消除这种差异。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本未审查的专利公布2-281513(于1990年11月10日公开)

专利文献2:日本未审查的专利公布64-043934(于1989年2月16日公开)

非专利文献

非专利文献1:OMRON Corporation″Limit switch technical guide″,http://www.fa.omron.co.jp/data_pdf/commentary/limitswitch_apparatus_tg_j_3_1_1-5.pdf,2010年11月19日。

发明内容

技术问题

然而,调整螺钉的调整任务为重复以下任务:轻微地旋转调整螺钉,以及在旋转之后确定由接触机构可检测到的移位构件位置;因此,调整任务特别费力。

在要检测移位构件的多个位置的情况下,需要对与移位构件的多个位置相对应的每个接触机构执行调整任务。因此,一个问题就是调整任务费时。

为了解决上述问题,作出了本发明,本发明的一个目的就是提供一种开关,所述开关设有将根据外力而移位的移位构件,所述开关用于根据所述移位构件的位置来输出信号,所述开关能够在不需要调整螺钉的情况下根据所述移位构件的期望位置容易地输出信号。

技术手段

为了解决上述问题,本发明的开关包括:移位构件,将根据外力而移位;信号输出装置,用于根据所述移位构件的位置来输出信号;光发射元件,用于从光发射表面发光;以及光接收元件,具有面向所述光发射表面的光接收表面,所述光接收元件用于输出表示入射到所述光接收表面上的光量的特征量;其中所述移位构件布置在所述光发射表面和所述光接收表面之间,并且当不存在外力时位于参考位置;供光穿过的开口,所述开口在所述移位构件中以如下方式形成:使得在从所述光发射表面发射的光中入射到所述光接收表面上的光量根据所述移位构件的位移而变化,所述开关还包括:设定处理装置,用于在所述移位构件移位到一指定位置的状态下输入设定指令时将从所述光接收元件输出的特征量设定为一个阈值;以及位置检测装置,用于执行以下检测处理,即通过比较由所述设定处理装置设定的阈值和由所述光接收元件输出的特征量来检测所述移位构件是更靠近所述参考位置还是更靠近所述指定位置,并且所述信号输出装置基于由所述位置检测装置执行的检测处理的结果来输出信号。

根据上述结构,在所述移位构件中以如下方式形成供光穿过的开口:使得在从所述光发射表面发射的光中入射到所述光接收表面上的光量根据所述移位构件的位移而变化。因此,因为入射到所述光接收表面上的光量因所述移位构件的位置而不同,所以从所述光接收元件输出的特征量因所述移位构件的位置而变化。通过以下步骤来检测所述移位构件是更靠近所述参考位置还是更靠近所述指定位置或者所述移位构件是否位于所述指定位置:在所述移位构件移位到所述指定位置的状态下将从所述光接收元件输出的特征量设定为阈值;以及比较设定的阈值和从所述光接收元件输出的特征量。因此,当用户仅在所述移位构件移位到所述指定位置的状态下输入设定指令时,在该状态下的特征量被设定为阈值;并且所述移位构件的位置可以被检测。因此,可以根据所述移位构件的位置容易地输出信号。从而,可以提供在不需要调整螺钉的情况下根据移位构件的期望位置容易地输出信号的开关。

技术效果

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