[发明专利]磁盘以及信息记录媒体用玻璃基板的制造方法

权利要求书

1.磁盘的制造方法，该方法是具有在温度为550℃以上的玻璃基板上形成磁记录层的步骤的磁盘的制造方法，其特征在于，以摩尔百分比表示时，玻璃基板含有62～74％的SiO₂、6～18％的Al₂O₃、2～15％的B₂O₃、合计量为8～21％的MgO、CaO、SrO以及BaO中的任一种以上的成分，所述7种成分的含量合计为95％以上，Li₂O、Na₂O以及K₂O中的任一种以上的成分的合计量不足1％或者不含有这3种成分中的任一种成分。

2.如权利要求1所述的磁盘的制造方法，其特征在于，玻璃基板含有7％以上的Al₂O₃。

3.如权利要求1或2所述的磁盘的制造方法，其特征在于，玻璃基板含有合计量为3～18％的MgO以及CaO中的任一种以上的成分。

4.如权利要求1或2所述的磁盘的制造方法，其特征在于，玻璃基板含有合计量为16％以下的MgO、CaO、SrO以及BaO中的任一种以上的成分。

5.如权利要求4所述的磁盘的制造方法，其特征在于，玻璃基板含有合计量为3％以上的MgO以及CaO中的任一种以上的成分。

6.如权利要求1～5中任一项所述的磁盘的制造方法，其特征在于，玻璃基板含有7％以上的B₂O₃。

7.如权利要求1～5中任一项所述的磁盘的制造方法，其特征在于，玻璃基板含有65～69％的SiO₂、9～12％的Al₂O₃、7～12％的B₂O₃、合计量为10～16％的MgO、CaO、SrO以及BaO中的任一种以上的成分。

8.如权利要求1～7中任一项所述的磁盘的制造方法，其特征在于，玻璃基板中的SrO以及BaO的合计含量与B₂O₃的含量之比((SrO+BaO)/B₂O₃)为1.2以下。

9.如权利要求1～8中任一项所述的磁盘的制造方法，其特征在于，以质量百分比表示时，玻璃基板含有超过8％的B₂O₃。

10.如权利要求1～9中任一项所述的磁盘的制造方法，其特征在于，玻璃基板的密度在2.57g/cm³以下。

11.磁盘的制造方法，该方法是具有在温度为550℃以上的玻璃基板上形成磁记录层的步骤的磁盘的制造方法，其特征在于，以摩尔百分比表示时，玻璃基板含有67～72％的SiO₂、11～14％的Al₂O₃、0以上且不足2％的B₂O₃、4～9％的MgO、4～6％的CaO、1～6％的SrO、0～5％的BaO，MgO、CaO、SrO以及BaO的合计含量为14～18％，所述7种成分的合计含量为95％以上，Li₂O、Na₂O以及K₂O中的任一种以上的成分的合计量不足1％或者不含有这3种成分中的任一种成分。

12.如权利要求1～11中任一项所述的磁盘的制造方法，其特征在于，玻璃基板的退火点在650℃以上。

13.信息记录媒体用玻璃基板，其特征在于，以摩尔百分比表示时，含有62～74％的SiO₂、7～18％的Al₂O₃、2～15％的B₂O₃、合计含量为8～16％的MgO、CaO、SrO以及BaO中的任一种以上的成分，所述7种成分的合计含量为95％以上，Li₂O、Na₂O、K₂O中的任一种以上的成分的合计量不足1％或者不含有这3种成分中的任一种成分。