[发明专利]用于电磁屏蔽的元件和系统有效

专利信息
申请号: 201180003504.3 申请日: 2011-05-17
公开(公告)号: CN102511206A 公开(公告)日: 2012-06-20
发明(设计)人: 途尔·尼尔森 申请(专利权)人: 诺兰特硅化物技术公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;G12B17/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 孙纪泉
地址: 瑞典哈*** 国省代码: 瑞典;SE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 电磁 屏蔽 元件 系统
【权利要求书】:

1.一种用于电磁屏蔽的元件(1),所述元件(1)具有纵向长度,并且

所述元件(1)沿着所述元件的纵向长度被共挤压以形成由导电材料组成的第一部分(2)和由非导电材料组成的第二部分(3);

在所述元件(1)中,当在横向于所述元件(1)的纵向长度的横截面中观察时,所述第一部分(2)和所述第二部分(3)被并排布置,

其中,当所述元件(1)装配在相对定位的第一部件(7)和第二部件(8)之间时,所述第一部分(2)形成所述第一部件(7)与所述第二部件(8)之间的电连接,并且所述第二部分(3)形成所述第一部件(7)与所述第二部件(8)之间的环境密封;以及

其中,所述元件(1)沿着所述元件的纵向长度具有至少一个突出部(5),所述突出部(5)用于当所述元件(1)装配到形成在所述第一部件(7)和/或所述第二部件(8)中的沟槽(6)中时固定所述元件(1)。

2.根据权利要求1所述的用于电磁屏蔽的元件(1),其中,当所述元件(1)装配到形成在所述第一部件(7)和/或所述第二部件(8)中的沟槽(6)中时,

所述第一部分(2)在彼此相对的所述第一部件(7)与所述第二部件(8)之间形成导电接触表面,所述导电接触表面至少在所述第一部件(7)与所述第二部件(8)之间的分隔平面上延伸。

3.根据前述权利要求中任一项所述的用于电磁屏蔽的元件(1),其中当在横向于所述元件(1)的纵向长度的横截面中观察时所述第一部分(2)具有沿圆周方向至少部分地包围所述第二部分(3)的几何形状。

4.根据权利要求1所述的用于电磁屏蔽的元件(1),其中,当所述元件(1)装配到形成在所述第一部件(7)和/或所述第二部件(8)中的沟槽(6)中时,

所述第二部分(3)在彼此相对的所述第一部件(7)与所述第二部件(8)之间形成环境密封,所述环境密封至少在所述第一部件(7)与所述第二部件(8)之间的分隔平面上延伸。

5.根据前述权利要求中任一项所述的用于电磁屏蔽的元件(1),其中,所述至少一个突出部(5)具有在横向于所述元件(1)的纵向长度的方向上为弹性的几何形状。

6.根据前述权利要求中任一项所述的用于电磁屏蔽的元件(1),其中,所述第一部分(2)包括容纳导电颗粒的弹性材料。

7.根据权利要求6所述的用于电磁屏蔽的元件(1),其中,所述第一部分(2)包括导电颗粒成分,所述导电颗粒成分的数量为10-80重量百分比,并且更优选地为50-70重量百分比。

8.根据前述权利要求中任一项所述的用于电磁屏蔽的元件(1),其中,所述第二部分(3)包括弹性材料。

9.根据前述权利要求中任一项所述的用于电磁屏蔽的元件(1),其中,当在横向于所述元件(1)的纵向长度的横截面中观察时所述元件(1)还包括孔(4)。

10.一种包括用于电磁屏蔽的元件(1)以及第一部件(7)和第二部件(8)的系统,

所述第一部件(7)和所述第二部件(8)在形成在一起的状态下在其接触表面中在所述第一部件(7)和所述第二部件(8)之间限定沟槽(6);

所述元件(1)具有纵向长度并被共挤压以形成由导电材料组成的第一部分(2)和由非导电材料组成的第二部分(3);以及

在所述元件(1)中,当在横向于所述元件(1)的纵向长度的横截面中观察时,所述第一部分(2)和所述第二部分(3)被并排布置,并且所述元件(1)沿其纵向长度具有至少一个突出部(5),所述突出部(5)用于当所述元件(1)装配到所述沟槽(6)中时固定所述元件(1),

其中,在所述元件(1)装配到所述沟槽中时,所述第一部分(2)在所述第一部件(7)与所述第二部件(8)之间形成电连接,并且所述第二部分(3)在所述第一部件(7)与所述第二部件(8)之间形成环境密封。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于诺兰特硅化物技术公司,未经诺兰特硅化物技术公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180003504.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top