[发明专利]支承装置以及曝光装置有效
申请号: | 201180003623.9 | 申请日: | 2011-05-02 |
公开(公告)号: | CN102484046A | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 池渊宏;桐生恭孝;户川悟 | 申请(专利权)人: | 恩斯克科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;G03F7/20 |
代理公司: | 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 | 代理人: | 陈波;林宇清 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 支承 装置 以及 曝光 | ||
1.一种支承装置,其支承着工作台,使工作台能够移动,其特征在于,具有:
基台;
移动部件,其能够沿上下方向移动地安装在所述基台上;
驱动机构,其将所述移动部件沿上下方向驱动;
关节机构,其允许所述工作台与所述移动部件彼此相对翘动,并将两者连结起来;以及
弹簧构件,其将所述工作台与所述移动部件连结起来,
所述弹簧构件的所述上下方向的弹簧刚性比其与所述上下方向正交的方向上的弹簧刚性低。
2.根据权利要求1所述的支承装置,其特征在于,在所述移动部件上,设有沿所述上下方向配置的导轨,在所述基台上,设有能够相对于所述导轨移动的滑块。
3.根据权利要求1或2所述的支承装置,其特征在于,
所述驱动机构具有:电机;将所述电机的旋转运动转换为轴线运动的转换机构;以及利用由所述转换机构转换的轴线运动而能够沿与所述上下方向正交的水平方向移动的楔构件,所述移动部件相应于所述楔构件在水平方向上的移动,沿所述上下方向移动。
4.一种曝光装置,具有:保持掩模的掩模保持部;驱动所述掩模保持部的掩模驱动机构;保持基板的基板保持部;驱动所述基板保持部的基板驱动机构;和隔着所述掩模向所述基板照射图案曝光用的光的照射构件,其特征在于,
所述基板驱动机构能够将所述基板保持部沿上下方向驱动,并且具有上下方向及倾斜调整机构,所述上下方向及倾斜调整机构能够调节所述基板保持部的倾斜,分别在所述基板保持部的相对的两边中的一边至少配置一个、在另一边至少配置两个,各所述上下方向及倾斜调整机构包括权利要求1~3中任一项所述的支承装置。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造