[发明专利]杂质离子除去装置有效
申请号: | 201180003777.8 | 申请日: | 2011-09-13 |
公开(公告)号: | CN102576005A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 增长洋登;丸山昇 | 申请(专利权)人: | 日理工业株式会社 |
主分类号: | G01N30/02 | 分类号: | G01N30/02;G01N30/88;G01N30/96 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人: | 吴大建;刘华联 |
地址: | 日本千叶*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 杂质 离子 除去 装置 | ||
1.杂质离子除去装置,作为从含有杂质离子的溶液中除去阳离子、阴离子中的任一种杂质离子的装置,其特征在于,包括:
(X1)隔着吸附除去对象杂质离子的离子交换体A1层,
通过对一方的电极C1侧赋予耐久性的离子交换膜B1而具备电极C1,所述电极C1与除去对象杂质离子的极性相同,所述离子交换膜B1是与除去对象杂质离子的极性相同的离子交换膜,
通过对另一方的电极C2侧赋予耐久性的离子交换膜B2而具备电极C2,所述电极C2与除去对象杂质离子的极性相反,所述离子交换膜B2是与除去对象杂质离子的极性相反的离子交换膜,
(X2)在所述离子交换体A1层的上端部设置原料溶液的导入口,在下端部远离导入口正下方的位置处设置纯化溶液的排出口,导入口和排出口分别设置于离子交换膜B2侧和离子交换膜B1侧,
在所述两电极的外侧同时设置排水出口和纯水的供给口,以及
(X3)与所述两电极相连的外部电流源。
2.杂质离子除去装置,作为从含有杂质离子的溶液中除去阳离子、阴离子中的任一种杂质离子的装置,其特征在于,包括:
(X1)隔着吸附除去对象杂质离子的离子交换体A1层,
通过对一方的电极C1侧赋予耐久性的离子交换膜B1而具备电极C1,所述电极C1与除去对象杂质离子的极性相同,所述离子交换膜B1是与除去对象杂质离子的极性相同的离子交换膜,
通过对另一方的电极C2侧赋予耐久性的离子交换膜B2、离子交换体A2层、赋予液体透过性和耐久性的离子交换膜B3或离子交换体A3层而具备电极C2,所述电极C2与除去对象杂质离子的极性相反,所述离子交换膜B2是与除去对象杂质离子的极性相反的离子交换膜,所述离子交换体A2层是吸附除去对象杂质离子的离子交换体,
(X2)在所述离子交换体A1层的上端部设置原料溶液的导入口,在下端部远离导入口正下方的位置处设置纯化溶液的排出口,导入口和排出口分别设置于离子交换膜B2侧和离子交换膜B1侧,
在所述两电极的外侧设置排水出口,在电极C1侧同时设置纯水的供给口,
在所述离子交换体A2层的上端部设置纯水的供给口,以及
(X3)与所述两电极相连的外部电流源。
3.杂质离子除去装置,作为从含有杂质离子的溶液中除去阳离子、阴离子中的任一种杂质离子的装置,其特征在于,包括:
(X1)隔着吸附除去对象杂质离子的离子交换体A1层,
通过对一方的电极C1侧赋予耐久性的离子交换膜B1、离子交换体A4层、赋予液体透过性和耐久性的离子交换膜B5或离子交换体A5层而具备电极C1,所述电极C1与除去对象杂质离子的极性相同,所述离子交换膜B1是与除去对象杂质离子的极性相同的离子交换膜,所述离子交换体A4层是吸附除去对象杂质离子的离子交换体,
通过对另一方的电极C2侧赋予耐久性的离子交换膜B2、离子交换体A2层、赋予液体透过性和耐久性的离子交换膜B3或离子交换体A3层而具备电极C2,所述电极C2与除去对象杂质离子的极性相反,所述离子交换膜B2是与除去对象杂质离子的极性相反的离子交换膜,所述离子交换体A2层是吸附除去对象杂质离子的离子交换体,
(X2)在所述离子交换体A1层的上端部设置原料溶液的导入口,在下端部远离导入口正下方的位置处设置纯化溶液的排出口,导入口和排出口分别设置于离子交换膜B2侧和离子交换膜B1侧,
在所述两电极的外侧设置排水出口,
在所述离子交换体A2层、A4层的上端部设置纯水的供给口,以及
(X3)与所述两电极相连的外部电流源。
4.多级式杂质离子除去装置,作为从含有杂质离子的溶液中除去阳离子、阴离子中的任一种杂质离子的装置,其特征在于,
将复数台权利要求1、2或3所述的杂质离子除去装置中相同极性的杂质离子除去装置相互连接而成。
5.根据权利要求1、2、3或4所述的杂质离子除去装置,其特征在于,
采用离子色谱仪的洗脱液纯化。
6.根据权利要求1、2、3或4所述的杂质离子除去装置,其特征在于,
采用离子色谱仪的抑制器。
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