[发明专利]曝光方法、曝光装置、图案形成方法及器件制造方法有效

专利信息
申请号: 201180004420.1 申请日: 2011-02-02
公开(公告)号: CN102612669A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 木内彻;水谷英夫 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/213 分类号: G03F7/213;G03F7/22;H01L21/027;G03F7/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李洋;杨林森
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 曝光 方法 装置 图案 形成 器件 制造
【权利要求书】:

1.一种曝光方法,该曝光方法将在第一面配置的图案的像投影到长条基板并向该长条基板转印所述图案,

所述曝光方法的特征在于,

所述曝光方法包括:

使所述图案沿着所述第一面朝第一方向移动;

将所述图案中的在所述第一面的第一部分区域配置的第一部分图案的放大像以规定倍率投影到第一投影区域;

将所述图案中的在从所述第一部分区域沿所述第一方向隔开规定的中心间隔的第二部分区域配置的第二部分图案的放大像,以所述规定倍率投影到与所述第一投影区域不同的第二投影区域;

与所述图案朝所述第一方向的移动同步,以经由所述第一投影区域以及所述第二投影区域的方式使所述长条基板沿该长条基板的长边方向移动;

基于所述规定倍率以及所述中心间隔,设定所述图案沿着所述第一方向的图案长度、与从所述第一投影区域到所述第二投影区域的所述长条基板的基板长度的至少一方。

2.根据权利要求1所述的曝光方法,其特征在于,

设定所述图案长度与所述基板长度的至少一方,是指使所述图案长度AL、所述基板长度SL、所述规定倍率MG以及所述中心间隔GP之间满足

0<SL≤MG×(AL-GP)的关系。

3.根据权利要求2所述的曝光方法,其特征在于,

在所述图案的所述第一方向上的两端部的区域形成有相互相同形状的图案。

4.根据权利要求2所述的曝光方法,其特征在于,

所述图案包括周期图案,该周期图案遍及所述第一方向的所述图案长度而在该第一方向具有周期性。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的曝光方法,其特征在于,

使所述图案朝所述第一方向移动,包括使与所述图案在所述第一方向邻接的辅助图案沿着所述第一面朝所述第一方向移动,

通过将所述辅助图案中的在所述第一部分区域或者所述第二部分区域配置的部分辅助图案的放大像以所述规定倍率投影到所述第一投影区域或者所述第二投影区域而在所述长条基板上形成的辅助转印图案、通过将所述第一部分图案的放大像投影到所述第一投影区域而在所述长条基板上形成的第一转印图案、以及通过将所述第二部分图案的放大像投影到所述第二投影区域而在所述长条基板上形成的第二转印图案,以在所述长条基板上相互连结的方式进行曝光。

6.根据权利要求5所述的曝光方法,其特征在于,

对由相互连结的所述第一转印图案与所述第二转印图案构成的转印图案区域进行多次重复曝光。

7.根据权利要求1所述的曝光方法,其特征在于,

设定所述图案长度与所述基板长度的至少一方,是指使所述图案长度AL、所述基板长度SL、所述规定倍率MG以及所述中心间隔GP之间满足

SL>MG×(AL-GP)的关系。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的曝光方法,其特征在于,

设定所述图案长度与所述基板长度的至少一方,包括准备形成有与所述规定倍率以及所述中心间隔对应的所述图案长度的图案的掩模,并将该掩模的图案面配置于所述第一面。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的曝光方法,其特征在于,

使所述长条基板沿着所述长边方向移动,包括使经由了所述第一投影区域的所述长条基板的区域经由迂回路径移动至所述第二投影区域,

设定所述图案长度与所述基板长度的至少一方,包括基于所述规定倍率以及所述中心间隔来设定所述迂回路径中的所述长条基板的长度。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的曝光方法,其特征在于,

使所述长条基板沿所述长边方向移动,是使所述长条基板朝所述长边方向的一方侧持续移动,

使所述图案朝所述第一方向移动,是使所述图案沿所述第一方向往复移动。

11.根据权利要求10所述的曝光方法,其特征在于,

使所述长条基板沿所述长边方向移动,是指使所述长条基板朝所述一方侧以第一速度移动,

使所述图案朝所述第一方向移动,是指使所述图案朝所述第一方向中的与所述长边方向的所述一方侧光学地对应的一侧以基于所述第一速度以及所述规定倍率的第二速度移动。

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