[发明专利]溅射靶有效
申请号: | 201180004497.9 | 申请日: | 2011-08-04 |
公开(公告)号: | CN102791904A | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 熊原吉一 | 申请(专利权)人: | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 金龙河;樊卫民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 溅射 | ||
1.一种溅射靶,整体为矩形,并且中央的靶部位具有平坦的溅射面,两端的靶部位具有倾斜的溅射面,所述溅射靶的特征在于,所述两端的靶部位的最大厚度比中央的靶部位的厚度大,该两端的靶部位的溅射面具备:从最大厚度部朝向靶中央向下方倾斜的角度α的倾斜面、和与该角度α的倾斜面相对的角度β的倾斜面。
2.如权利要求1所述的溅射靶,其特征在于,所述角度α为0.3~45°。
3.如权利要求1或2所述的溅射靶,其特征在于,所述角度β为所述角度α的30~80%。
4.如权利要求1~3中任一项所述的溅射靶,其特征在于,所述角度α的倾斜面与角度β的倾斜面以直线接合,该接合位置的靶厚度比中央的靶部位的厚度薄。
5.如权利要求1~3中任一项所述的溅射靶,其特征在于,在所述角度α的倾斜面与角度β的倾斜面之间具有平坦面P。
6.如权利要求5所述的溅射靶,其特征在于,平坦面P的靶的厚度比所述中央的靶部位的厚度薄。
7.如权利要求6所述的溅射靶,其特征在于,平坦面P的长度L3比角度α的倾斜面的长度L1以及角度β的倾斜面的长度L2短。
8.如权利要求7所述的溅射靶,其特征在于,所述L1、L2和L3的合计长度为矩形靶的总长的25%以下。
9.如权利要求1~8中任一项所述的溅射靶,其特征在于,靶为分割靶。
10.如权利要求1~9中任一项所述的溅射靶,其特征在于,两端的靶部位为具有角度α的倾斜面和角度β的倾斜面的一体靶。
11.如权利要求1~10中任一项所述的溅射靶,其特征在于,具有平坦部的两端的靶部位、具有角度α的倾斜面的靶部位、具有角度β的倾斜面的靶部位、在角度α的倾斜面与角度β的倾斜面之间具有平坦面P的靶部位、具备平坦的溅射面的中央的靶部位中的一个或多个为分割靶。
12.如权利要求1~11中任一项所述的溅射靶,其特征在于,溅射后的基板面内整体的膜厚均匀度在低于±10%的范围内。
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