[发明专利]单胺衍生物以及使用其的有机电致发光元件无效
申请号: | 201180005696.1 | 申请日: | 2011-08-05 |
公开(公告)号: | CN102712570A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 伊藤光则;荻原俊成;西村和树;井上哲也;日比野茎子 | 申请(专利权)人: | 出光兴产株式会社 |
主分类号: | C07C211/54 | 分类号: | C07C211/54;C07C211/57;C07C211/61;C09K11/06;H01L51/50 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 徐申民;李晓 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 衍生物 以及 使用 有机 电致发光 元件 | ||
技术领域
本发明涉及单胺衍生物以及使用它的有机电致发光元件。
背景技术
已知一种有机电致发光元件,其在阳极和阴极之间具备含有发光层的有机薄膜层,通过注入发光层的空穴和电子的再结合而产生激子(exciton)能量,由该激子能量导致发光(以下有时简称为“有机EL元件”)(例如,参阅专利文献1~5)。
专利文献1至5中记载了有机EL元件使用的单胺衍生物。作为这些单胺衍生物,记载了具有由苯环、萘环、菲环、二苯并呋喃环、芴环衍生的基团的结构。
另外,专利文献1、2的单胺衍生物,与作为荧光发光材料的TBPe(2,5,8,11-四叔丁基二萘嵌苯)或1,2-双(4-联萘氨基苯基)乙烯组合,作为荧光基质材料被使用。
另外,专利文献3的单胺衍生物是发出荧光的化合物,作为形成有机EL元件的发光层的材料被使用。
另外,之前有种有机EL元件,由1种基质材料形成含有磷光发光性掺杂剂材料的发光层。对于这样的有机EL元件,在发光层有时电子或空穴中某项的传输失衡。这种情况下,因为没有参与再次结合的电子或空穴存在过剩,所以必须研究调整电子和空穴的载流子平衡来防止发光效率降低的方法。
例如,有一种有机EL元件被提议,通过在发光层使用电子传输性的第1基质材料以及空穴传输性的第2基质材料,来调整载流子的平衡(参照专利文献6至9)。
专利文献6公开了一种有机EL元件,具备的发光层使用CBP(4,4’-双(咔唑)联二苯)作为电子传输性的第1基质材料,使用TPD(N,N’-双(3-甲基苯基)-N,N’-联二苯联苯胺、二胺衍生物)作为空穴传输性的第2基质材料。而且,专利文献6的有机EL元件,通过改变第2基质材料TPD的浓度,获得了提高发光效率的效果。
专利文献7公开了一种有机EL元件,其具备显示荧光发光性的发光层,所述发光层使用2-(4’-叔丁基苯基)-5-(4”-联二苯)-1,3,4-噁二唑作为电子传输性的第1基质材料,使用TPD作为空穴传输性的第2基质材料。
专利文献8、9公开了一种有机EL元件,其具备的发光层使用Alq3(三(8-羟基喹啉)铝)作为电子传输性的第1基质材料,使用NPD(N,N’-联二苯-N,N’-双α-萘基联苯胺、二胺衍生物)作为空穴传输性第2基质材料。
现有技术
专利文献
专利文献1:日本专利特表2008-545729号公报
专利文献2:日本专利特开2009-215333号公报
专利文献3:日本专利特开2000-12229号公报
专利文献4:日本专利特开2008-37755号公报
专利文献5:日本专利特开2009-283899号公报
专利文献6:日本专利特开2004-296185号公报
专利文献7:日本专利特开平4-212286号公报
专利文献8:日本专利特表2004-515895号公报
专利文献9:日本专利特开2004-172068号公报
发明内容
发明要解决的课题
专利文献1至5中公开了作为单胺衍生物,具有如上所述的苯环等结构。
使用这些单胺衍生物作为磷光基质材料,与磷光发光材料组合,被认为使外部量子效率等得到提高。
然而,由于磷光基质材料的激发三重态能量,不得不比组合的磷光发光材料高,所以专利文献1至5的单胺衍生物不能单纯地被改用为磷光基质材料。
另外,一般胺衍生物的电子弱且寿命极短,而且比起CBP之类的一直被使用于磷光基质材料的咔唑衍生物等,寿命还要短。为此,作为荧光基质材料的专利文献1至5中记载的胺衍生物,被改用为磷光基质材料是困难的。
另外,在专利文献2中公开了非胺化合物和二氨基化合物作为磷光基质材料。但是,作为磷光基质材料使用,除了激发三重态能量,还要求电荷传输性,由于专利文献2中公开的材料,没有完全满足这些要求,所以要完成高效率·寿命长这两方面的要求比较困难。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于出光兴产株式会社,未经出光兴产株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180005696.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:基坑支护结构及其建造方法
- 下一篇:垂直轴风力涡轮发电机