[发明专利]三维结构体及其制造方法

权利要求书

1.一种三维结构体，其是形成于基材上的三维结构体，

包含层叠而成的多个二维结构体，

所述二维结构体分别各包含多个卟啉、第1金属离子、及特定的有机分子，

所述卟啉包含2个以上的官能团，

所述第1金属离子是使不同的所述卟啉的所述官能团彼此键合的金属离子，

所述特定的有机分子是配位键合在所述二维结构体中所含的金属离子上的有机分子，并且是仅包含1个与所述金属离子配位的部分的有机分子。

2.根据权利要求1所述的三维结构体，其中，所述卟啉是包含4个羧基且不含与卟吩环配位的中心金属离子的卟啉、或者是包含4个羧基和与卟吩环配位的中心金属离子的卟啉金属络合物。

3.根据权利要求2所述的三维结构体，其中，所述第1金属离子是2价的铜离子或2价的镍离子，

所述特定的有机分子是包含含氮芳香环的分子。

4.根据权利要求3所述的三维结构体，其中，所述特定的有机分子是吡啶。

5.根据权利要求1所述的三维结构体，其中，所述卟啉是包含4个羧基和与卟吩环配位的钴离子的卟啉金属络合物。

6.一种三维结构体的制造方法，该制造方法包括以下工序：

(i)在液体的表面形成二维结构体的工序；

(ii)使所述二维结构体堆积到基材上的工序；

(iii)将包括所述(i)的工序和所述(ii)的工序的循环反复进行1次以上的工序，

所述二维结构体分别各包含多个卟啉、第1金属离子、及特定的有机分子，

所述卟啉包含2个以上的官能团，

所述第1金属离子是使不同的所述卟啉的所述官能团彼此键合的金属离子，

所述特定的有机分子是配位键合在所述二维结构体中所含的金属离子上的有机分子，并且是仅包含1个与所述金属离子配位的部分的有机分子。

7.根据权利要求6所述的制造方法，其中，在所述(ii)的工序之后，包括(x)将堆积有所述二维结构体的所述基材浸渍到溶剂中的工序，

所述(iii)的工序是将包括所述(i)的工序和所述(ii)的工序和所述(x)的工序的循环反复进行1次以上的工序。

8.根据权利要求6或7所述的制造方法，其中，所述卟啉是包含4个羧基且不含与卟吩环配位的中心金属离子的卟啉、或者是包含4个羧基和与卟吩环配位的中心金属离子的卟啉金属络合物。

9.根据权利要求8所述的制造方法，其中，所述第1金属离子是2价的铜离子或2价的镍离子，

所述特定的有机分子是包含含氮芳香环的分子。

10.根据权利要求9所述的制造方法，其中，所述特定的有机分子是吡啶。

11.根据权利要求6或7所述的制造方法，其中，所述卟啉是包含4个羧基和与卟吩环配位的钴离子的卟啉金属络合物。

12.根据权利要求6所述的制造方法，其中，所述(i)的工序是通过向含有所述第1金属离子的第1溶液中添加含有所述卟啉和所述特定的有机分子的第2溶液，从而在所述液体的表面形成所述二维结构体的工序。

13.根据权利要求12所述的制造方法，其中，所述(ii)的工序是在所述基材的表面相对于所述液体的表面平行的状态下，使所述基材接近所述二维结构体，由此使所述二维结构体堆积到所述基材上的工序。