[发明专利]复合材料及其生产方法有效
申请号: | 201180006231.8 | 申请日: | 2011-01-14 |
公开(公告)号: | CN102712518A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 因卡·亨策;斯特凡·施彭格勒;马蒂亚斯·布克梅尔;伊夫琳·鲁迪吉尔-沃伊特;塔玛拉·斯维克;奥利弗·格罗斯;克里斯蒂安·亨 | 申请(专利权)人: | 肖特公开股份有限公司 |
主分类号: | C03C1/00 | 分类号: | C03C1/00;C03C17/34;C03C17/36 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 郇春艳;谢丽娜 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 复合材料 及其 生产 方法 | ||
1.一种生产具有至少两层的复合材料、尤其玻璃或玻璃陶瓷复合材料的方法,其包括以下步骤:
-提供具有α≤5×10-6K-1的热膨胀系数的基底;
-将图案化溶胶-凝胶层施加到所述基底上,其中将粒子加入到用于所述溶胶-凝胶层的材料中;
-热固化所述图案化溶胶-凝胶层;
-使用沉积方法施加至少一个另外的层。
2.根据前述权利要求所述的生产复合材料的方法,其中所述另外的层通过PVD或CVD方法沉积。
3.根据前述权利要求中任一项所述的生产复合材料的方法,其中所述另外的沉积层为有色层或具有金属外观的层。
4.根据前述权利要求中任一项所述的生产复合材料的方法,其中所述另外的沉积层为包含至少一种半导体材料的层。
5.根据前述权利要求所述的生产复合材料的方法,其中将待图案化的层在图案化之前预固化,尤其热预固化或使用光化学方法预固化。
6.根据前述权利要求中任一项所述的生产复合材料的方法,其中将纳米粒子加入到用于所述图案化层的材料中,尤其是平均粒度为0.1至1m的纳米粒子。
7.根据前述权利要求中任一项所述的生产复合材料的方法,其中将所述图案化层在50至1000℃下、优选在100至500℃下热固化。
8.根据前述权利要求中任一项所述的生产复合材料的方法,其中所述图案化层使用压印工具、尤其是压印印模或辊生产。
9.根据前述权利要求中任一项所述的生产复合材料的方法,其中粒子相对于所述图案化层的前体的体积分数为0.1至0.9、优选为0.5至0.8。
10.根据前述权利要求中任一项所述的生产复合材料的方法,其中使用自组装溶胶-凝胶。
11.生产具有至少两层的复合材料的方法,尤其是根据前述权利要求中任一项所述的方法,其包括以下步骤:
-施加图案化溶胶-凝胶层到基底上;
-使用沉积方法施加至少一个另外的层。
12.复合材料,尤其是可通过根据前述权利要求中任一项所述的方法生产或者通过根据前述权利要求中任一项所述的方法生产的复合材料,其包括基底,尤其是玻璃或玻璃陶瓷基底,且尤其在其上布置有至少部分无机层的具有α≤5×10-6K-1的热膨胀系数的基底,其中使所述至少部分无机层图案化,且其中另外的层布置在所述无机层上,所述另外的层通过PVD或CVD方法沉积。
13.根据前述权利要求所述的复合材料,其中所述至少部分无机层为多孔的。
14.根据前述权利要求中任一项所述的复合材料,其中所述至少部分无机层的强度和/或通过PVD或CVD方法沉积的所述层的强度至少等于、优选大于所述基底的强度。
15.根据前述权利要求中任一项所述的复合材料,其中所述至少部分无机层的折射率为1.2至1.8、优选为1.4至1.65,和/或其中通过PVD或CVD方法沉积的所述层的折射率为1.2至2.2、优选为1.8至2.1。
16.根据前述权利要求中任一项所述的复合材料,其中所述至少部分无机层包含高温稳定的Si-甲基和/或Si-苯基基团。
17.根据前述权利要求中任一项所述的复合材料,其中,在400至750nm波长范围内,所述复合材料显示最小值与最大值相差小于0.6个百分点的透射曲线。
18.根据前述权利要求中任一项所述的复合材料,其中所述基底显示通过所述另外层的彩色透射补偿的彩色透射,以使得所述复合材料具有基本无色的透射。
19.根据前述权利要求中任一项所述的复合材料,其中所述复合材料设计成使得当经其透射白光时,透射的光在L*a*b*彩色空间中的a*轴和/或b*轴上具有低于20、优选低于10的绝对值。
20.根据前述权利要求所述的复合材料,其中所述至少部分无机图案化层的图案深度为0.05μm至2mm、优选为100nm至1mm。
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