[发明专利]正型抗蚀剂组合物及微透镜的制造方法

权利要求书

1.一种正型抗蚀剂组合物，其包含下述(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分：

(A)成分：碱溶性聚合物；

(B)成分：具有进行光分解而产生碱溶性基团的有机基团的化合物；

(C)成分：式(1)所示的交联性化合物，

R¹、R²和R³各自独立地表示碳原子数1～6的可以具有支链的亚烷基或氧亚烷基，E¹、E²和E³各自独立地表示包含式(2)或式(3)所示结构的基团，

式中，R⁴表示氢原子或甲基；

(D)成分：溶剂。

2.根据权利要求1所述的正型抗蚀剂组合物，(A)成分的碱溶性聚合物为在重复单元中包含羟基、羧基、或它们的组合的聚合物。

3.根据权利要求1或2所述的正型抗蚀剂组合物，(A)成分的碱溶性聚合物为具有羟基、羧基、或它们的组合的单体与具有疏水性基团的单体的共聚物。

4.根据权利要求1～3的任一项所述的正型抗蚀剂组合物，(B)成分为具有式(4)所示结构的化合物，

式(4)中，R⁵表示氢原子或下述式(5)所示的结构，R⁶表示碳原子数1～10的取代或未取代的烷基、卤原子、或碳原子数1～10的烷氧基；m3表示0或1的整数，当m3为0时，m1表示1～5的整数，m2表示满足0≤m2≤(5－m1)的整数，当m3为1时，m1表示1～7的整数，m2表示满足0≤m2≤(7－m1)的整数；其中，R⁵的10～100摩尔%表示下述式(5)所示的结构，

式(5)中，R⁷表示单键或－SO₃－基，R⁸表示碳原子数1～10的烷基，m4表示0～3的整数。

5.根据权利要求4所述的正型抗蚀剂组合物，(B)成分为式(6)所示的化合物，

式(6)中，R⁵、R⁶与上述式(4)中所示的相同，R⁷表示氢原子或碳原子数1～10的烷基，m5表示0～10的整数，m6表示1～5的整数，m7表示满足0≤m7≤(5－m6)的整数，m8表示0～1的整数，m9表示0～5的整数，m10表示满足0≤m10≤(5－m8－m9)的整数；其中，R⁵的10～100摩尔%表示上述式(5)所示的结构。

6.根据权利要求1～5的任一项所述的正型抗蚀剂组合物，(C)成分的交联性化合物中，式(1)中的E¹、E²、E³、或选自这些E¹～E³中的2种以上具有式(7)所示的有机基团，

式中，R⁴表示氢原子或甲基。

7.根据权利要求1～6的任一项所述的正型抗蚀剂组合物，在形成厚度1.0μm的组合物膜时，具有相对于波长400～730nm的光的透射率为80%以上的涂膜物性。

8.一种图案形成方法，其包括以下工序：将权利要求1～6的任一项所述的正型抗蚀剂组合物涂布在基板上，干燥，曝光，然后显影。

9.根据权利要求8所述的图案形成方法，其在曝光后、显影前包括加热工序。

10.一种固体摄像元件，其包含通过权利要求8或9所述的图案形成方法制造的微透镜或平坦化膜。