[发明专利]分析装置有效
申请号: | 201180007541.1 | 申请日: | 2011-01-27 |
公开(公告)号: | CN102741680A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 稻边利幸;牧野彰久;足立作一郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | G01N21/49 | 分类号: | G01N21/49 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 张敬强;严星铁 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分析 装置 | ||
1.一种分析装置,该分析装置利用检测器对因光的照射而从测定对象散射的散射光进行测定,其特征在于,
在垂直于向上述测定对象照射的上述光的光轴的平面上且以光轴为中心的圆周上至少配置两个检测器。
2.一种分析装置,该分析装置具有:收放测定对象体的反应容器;向上述反应容器照射光的光源部;测定在上述测定对象体散射的光的散射强度的检测器;测定上述检测器的输出的检测电路部;对来自上述检测电路部的输出进行处理的运算部;保存来自上述检测电路部的输出的记录部,
上述分析装置的特征在于,
在垂直于从上述光源部向上述反应容器照射的光轴的平面上且以光轴为中心的圆周上配置两个以上的检测器。
3.根据权利要求1或者2所述的分析装置,其特征在于,
从配置于圆周上的上述检测器中选择用于测定的检测器。
4.根据权利要求1或者2所述的分析装置,其特征在于,
利用上述运算部对配置于圆周上的上述检测器的输出进行平均化。
5.根据权利要求1或者2所述的分析装置,其特征在于,
利用上述检测电路部或者上述运算部对配置于圆周上的上述检测器的输出进行修正。
6.一种分析装置,该分析装置利用检测器对因光的照射而从测定对象散射的散射光进行测定,其特征在于,
在垂直于穿透了上述测定对象的上述光的光轴的平面上且以光轴为中心的圆周上配置至少两个检测器。
7.根据权利要求1、2、6中的任意一项所述的分析装置,其特征在于,
排除判断为输出异常的检测器的输出。
8.根据权利要求7所述的分析装置,其特征在于,
对未经上述排除的剩余的检测器的输出进行运算处理而对其进行平均化。
9.一种分析装置,该分析装置利用检测器对因光的照射而从测定对象散射的散射光进行测定,其特征在于,
在隔着上述测定对象的上述检测器的相反一侧进行在以通过上述测定对象和上述检测器的线为中心的圆周上的光的点灭,在上述测定对象的测定中以上述点灭旋转移动的方式按顺序重复。
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