[发明专利]分析装置有效

专利信息
申请号: 201180007541.1 申请日: 2011-01-27
公开(公告)号: CN102741680A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 稻边利幸;牧野彰久;足立作一郎 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: G01N21/49 分类号: G01N21/49
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 张敬强;严星铁
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 分析 装置
【权利要求书】:

1.一种分析装置,该分析装置利用检测器对因光的照射而从测定对象散射的散射光进行测定,其特征在于,

在垂直于向上述测定对象照射的上述光的光轴的平面上且以光轴为中心的圆周上至少配置两个检测器。

2.一种分析装置,该分析装置具有:收放测定对象体的反应容器;向上述反应容器照射光的光源部;测定在上述测定对象体散射的光的散射强度的检测器;测定上述检测器的输出的检测电路部;对来自上述检测电路部的输出进行处理的运算部;保存来自上述检测电路部的输出的记录部,

上述分析装置的特征在于,

在垂直于从上述光源部向上述反应容器照射的光轴的平面上且以光轴为中心的圆周上配置两个以上的检测器。

3.根据权利要求1或者2所述的分析装置,其特征在于,

从配置于圆周上的上述检测器中选择用于测定的检测器。

4.根据权利要求1或者2所述的分析装置,其特征在于,

利用上述运算部对配置于圆周上的上述检测器的输出进行平均化。

5.根据权利要求1或者2所述的分析装置,其特征在于,

利用上述检测电路部或者上述运算部对配置于圆周上的上述检测器的输出进行修正。

6.一种分析装置,该分析装置利用检测器对因光的照射而从测定对象散射的散射光进行测定,其特征在于,

在垂直于穿透了上述测定对象的上述光的光轴的平面上且以光轴为中心的圆周上配置至少两个检测器。

7.根据权利要求1、2、6中的任意一项所述的分析装置,其特征在于,

排除判断为输出异常的检测器的输出。

8.根据权利要求7所述的分析装置,其特征在于,

对未经上述排除的剩余的检测器的输出进行运算处理而对其进行平均化。

9.一种分析装置,该分析装置利用检测器对因光的照射而从测定对象散射的散射光进行测定,其特征在于,

在隔着上述测定对象的上述检测器的相反一侧进行在以通过上述测定对象和上述检测器的线为中心的圆周上的光的点灭,在上述测定对象的测定中以上述点灭旋转移动的方式按顺序重复。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立高新技术,未经株式会社日立高新技术许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180007541.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top