[发明专利]绝缘金属基板和半导体器件有效
申请号: | 201180007982.1 | 申请日: | 2011-01-26 |
公开(公告)号: | CN102782866A | 公开(公告)日: | 2012-11-14 |
发明(设计)人: | 祐谷重德 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | H01L31/04 | 分类号: | H01L31/04 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 牛海军 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 绝缘 金属 半导体器件 | ||
1.一种绝缘金属基板,所述绝缘金属基板包括:
金属基体,所述金属基体由钢、铁基合金钢或钛制成;
铝层,所述铝层安置在所述金属基体的至少一个表面上;
绝缘层,所述绝缘层通过将所述铝层的前表面阳极氧化而形成;和
合金层,所述合金层主要由组成用Al3X(其中X是选自Fe、Cr和Ti的至少一种元素)表示的合金制成,并且存在于所述金属基体和所述铝层之间的界面中,
其中所述合金层具有0.01至10微米的厚度,并且
其中所述铝层的厚度为1微米以上并且等于或小于所述金属基体的厚度。
2.根据权利要求1所述的绝缘金属基板,其中所述绝缘层是具有多孔结构的铝的阳极氧化膜。
3.根据权利要求1或2所述的绝缘金属基板,所述铝层通过下列方式安置在所述金属基体的所述至少一个表面上:将铝片材压力结合在所述金属基体的所述至少一个表面上。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的绝缘金属基板,其中所述金属基体具有10至1000微米的厚度。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的绝缘金属基板,其中所述绝缘层具有0.5至50微米的厚度。
6.一种半导体器件,所述半导体器件包括:
根据权利要求1至4中任一项所述的绝缘金属基板;和
半导体元件,所述半导体元件以阵列方式布置在所述绝缘金属基板的前表面上。
7.根据权利要求6所述的半导体器件,其中所述半导体元件是串联连接的光电转换元件。
8.根据权利要求7所述的半导体器件,其中所述光电转换元件中的每一个都具有光吸收层,所述光吸收层包含具有黄铜矿型晶体结构的化合物半导体。
9.根据权利要求8所述的半导体器件,其中所述光电转换元件中的每一个都具有由钼制成的底部电极,并且所述化合物半导体包含由第11族元素、第13族元素和第16族元素制成的至少一种化合物半导体。
10.根据权利要求8所述的半导体器件,其中所述第11族元素包括铜和/或银,所述第13族元素包括选自由铝、镓和铟组成的组中的至少一种元素,并且所述第16族元素包括选自由硫、硒和碲组成的组中至少一种元素。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的