[发明专利]绝缘金属基板和半导体器件有效

专利信息
申请号: 201180007982.1 申请日: 2011-01-26
公开(公告)号: CN102782866A 公开(公告)日: 2012-11-14
发明(设计)人: 祐谷重德 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: H01L31/04 分类号: H01L31/04
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 牛海军
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 绝缘 金属 半导体器件
【权利要求书】:

1.一种绝缘金属基板,所述绝缘金属基板包括:

金属基体,所述金属基体由钢、铁基合金钢或钛制成;

铝层,所述铝层安置在所述金属基体的至少一个表面上;

绝缘层,所述绝缘层通过将所述铝层的前表面阳极氧化而形成;和

合金层,所述合金层主要由组成用Al3X(其中X是选自Fe、Cr和Ti的至少一种元素)表示的合金制成,并且存在于所述金属基体和所述铝层之间的界面中,

其中所述合金层具有0.01至10微米的厚度,并且

其中所述铝层的厚度为1微米以上并且等于或小于所述金属基体的厚度。

2.根据权利要求1所述的绝缘金属基板,其中所述绝缘层是具有多孔结构的铝的阳极氧化膜。

3.根据权利要求1或2所述的绝缘金属基板,所述铝层通过下列方式安置在所述金属基体的所述至少一个表面上:将铝片材压力结合在所述金属基体的所述至少一个表面上。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的绝缘金属基板,其中所述金属基体具有10至1000微米的厚度。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的绝缘金属基板,其中所述绝缘层具有0.5至50微米的厚度。

6.一种半导体器件,所述半导体器件包括:

根据权利要求1至4中任一项所述的绝缘金属基板;和

半导体元件,所述半导体元件以阵列方式布置在所述绝缘金属基板的前表面上。

7.根据权利要求6所述的半导体器件,其中所述半导体元件是串联连接的光电转换元件。

8.根据权利要求7所述的半导体器件,其中所述光电转换元件中的每一个都具有光吸收层,所述光吸收层包含具有黄铜矿型晶体结构的化合物半导体。

9.根据权利要求8所述的半导体器件,其中所述光电转换元件中的每一个都具有由钼制成的底部电极,并且所述化合物半导体包含由第11族元素、第13族元素和第16族元素制成的至少一种化合物半导体。

10.根据权利要求8所述的半导体器件,其中所述第11族元素包括铜和/或银,所述第13族元素包括选自由铝、镓和铟组成的组中的至少一种元素,并且所述第16族元素包括选自由硫、硒和碲组成的组中至少一种元素。

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