[发明专利]强化结构模件和制造方法有效

专利信息
申请号: 201180007993.X 申请日: 2011-01-31
公开(公告)号: CN102770801A 公开(公告)日: 2012-11-07
发明(设计)人: O·于尔海;M·普特康恩;A·帕卡拉 申请(专利权)人: 贝尼科公司
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339;H01L23/31;H01L51/52;H01L33/52;C03C17/00;C23C16/455
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 赵蓉民;刘明
地址: 芬兰*** 国省代码: 芬兰;FI
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 强化 结构 模件 制造 方法
【权利要求书】:

1.强化结构模件(2),包含基本上平面的玻璃基底(1)、基本上平面的第二基底(3)和至少一个间隔元件(5),所述至少一个间隔元件(5)在所述玻璃基底(1)与所述第二基底(3)之间,并接触所述玻璃基底(1)的平面表面和所述第二基底(3)的平面表面,所述至少一个间隔元件(5)使所述玻璃基底(1)与所述第二基底(3)保持两基底的边缘彼此分离,并在所述模件(2)内限定在所述两基底之间的空间(7),其特征在于所述模件(2)包含在所述模件(2)外侧周围围绕所述模件(2)的涂层(9),所述涂层(9)被共形地安排在所述玻璃基底(1)、第二基底(3)和至少一个间隔元件(5)上,在朝向所述模件外侧的表面(2)上,用于增加所述模件(2)的强度。

2.权利要求1所述的模件(2),其特征在于所述两基底之间的所述空间(7)是封闭空间。

3.权利要求1-2中任一项所述的模件(2),其特征在于所述涂层(9)是连续的薄膜。

4.权利要求1-3中任一项所述的模件(2),其特征在于所述第二基底(3)是玻璃。

5.权利要求1-4中任一项所述的模件(2),其特征在于所述模件(2)是平板显示器中的模件(2)。

6.权利要求1-5中任一项所述的模件(2),其特征在于所述两基底之间的所述空间(7)包含适于液晶显示器的液晶。

7.权利要求1-6中任一项所述的模件(2),其特征在于所述至少一个间隔元件(5)密封所述空间(7),从而防止气体从所述模件(2)外侧流到所述模件(2)内。

8.权利要求1-7中任一项所述的模件(2),其特征在于所述间隔元件(5)的材料选自环氧树脂、弹性体和玻璃粉。

9.权利要求1-8中任一项所述的模件(2),其特征在于所述基本上平面的玻璃基底(1)平均薄于1.5毫米。

10.权利要求1-9中任一项所述的模件(2),其特征在于所述涂层(9)具有50纳米以下的厚度。

11.制造包含基本上平面的玻璃基底(1)、基本上平面的第二基底(3)和至少一个间隔元件(5)的强化结构模件(2)的方法,所述方法包括,将所述至少一个间隔元件(5)安排在所述基本上平面的玻璃基底(1)与所述基本上平面的第二基底(3)之间,接触所述玻璃基底(1)的平面表面和所述第二基底(3)的平面表面,所述至少一个间隔元件(5)使所述玻璃基底(1)与所述第二基底(3)保持两基底的边缘彼此分离,并在所述模件(2)内限定所述两基底之间的空间(7),其特征在于所述方法包括

-使在所述模件(2)外侧周围围绕所述模件(2)的涂层(9)共形地形成在所述玻璃基底(1)、第二基底(3)和所述至少一个间隔元件(5)上,在朝向所述模件外侧的表面上,用于增加所述模件的强度。

12.权利要求11所述的方法,其特征在于所述两基底之间的所述空间(7)是封闭空间。

13.权利要求11-12中任一项所述的方法,其特征在于所述涂层(9)是连续的薄膜。

14.权利要求11-13中任一项所述的方法,其特征在于形成涂层(9)包括在朝向所述模件外侧的表面上共形地沉积连续的膜。

15.权利要求11-14中任一项所述的方法,其特征在于形成所述涂层(9)包括

-将第一前体引入反应空间,使得至少部分所述第一前体吸附在朝向所述模件外侧的表面上,并随后净化所述反应空间,和

-将第二前体引入反应空间,使得至少部分所述第二前体与所述第一前体的吸附部分发生反应,并随后净化所述反应空间。

16.权利要求11-15中任一项所述的方法,其特征在于形成涂层包括用原子层沉积(ALD)型方法形成所述涂层(9)。

17.权利要求11-16中任一项所述的方法,其特征在于所述第二基底(3)是玻璃。

18.权利要求11-17中任一项所述的方法,其特征在于所述模件(2)是平板显示器中的模件。

19.权利要求11-18中任一项所述的方法,其特征在于所述两基底之间的所述空间(7)包含适于液晶显示器的液晶。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于贝尼科公司,未经贝尼科公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180007993.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top