[发明专利]便于清洗的烹饪表面以及包括这种烹饪表面的烹饪用品或家电设备有效
申请号: | 201180008928.9 | 申请日: | 2011-02-10 |
公开(公告)号: | CN103328679A | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | 斯特凡·蒂弗;让·弗朗索瓦·皮尔逊 | 申请(专利权)人: | SEB公司;洛林大学;国家科学研究中心 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;A47J27/00 |
代理公司: | 北京万慧达知识产权代理有限公司 11111 | 代理人: | 白华胜;张一军 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 便于 清洗 烹饪 表面 以及 包括 这种 用品 家电 设备 | ||
1.一种用于烹饪用品或者烹饪家电设备的食物烹饪表面(8),所述烹饪表面(8)包括在基板(4)上的Zr和/或Nb和/或Ti的沉积,制作过程包括对所述元素中的至少一个进行碳化和/或氮化的步骤,其特征在于,所述烹饪表面(8)还包括Si的沉积,以便实现(Zr/Nb/Ti)-Si-(N/C)覆盖层(6)。
2.根据权利要求1所述的烹饪表面(8),其特征在于,所述沉积是通过物理气相沉积实现的。
3.根据权利要求2所述的烹饪表面(8),其特征在于,所述沉积是在反应条件下实现的,以便在沉积步骤期间执行碳化和/或氮化步骤。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的烹饪表面(8),其特征在于,所述Si的沉积是在与Zr和/或Nb和/或Ti的沉积相同的沉积步骤中实现的。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的烹饪表面(8),其特征在于,所述烹饪表面(8)包括(Zr/Nb)-Si-N的沉积。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的烹饪表面(8),其特征在于,Si的原子含量介于1%和15%之间、且优选介于1%和5%之间。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的烹饪表面(8),其特征在于,Zr、Nb或Ti中的一种组分或多种组分的金属沉积层是在碳化和/或氮化阶段之前实现的。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的烹饪表面(8),其特征在于,所实现的沉积的厚度介于2μm和10μm之间。
9.根据在从属于权利要求2或3中任一项时的权利要求2至8中任一项所述的烹饪表面(8),其特征在于,所述沉积是通过一个或多个靶实现的,所述一个或多个靶是通过将一个或多个具有期望成分的材料板材或板组装在导体支架上获得的,所述板材或板或是通过轧制、或是通过粉末烧结或者粉末的热喷镀、或是从浇铸获得的。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的烹饪表面(8),其特征在于,所述基板(4)由以下材料的一个或多个金属板材构成,这些材料是:铝、铜、生铁、钢、特别是不锈钢。
11.一种用于食物烹饪的烹饪用品,其特征在于,所述烹饪用品包括权利要求1至10中任一项所述的烹饪表面(8)。
12.一种用于食物烹饪的家电设备,所述家电设备包括烹饪表面(8)和所述烹饪表面(8)的电加热机构或气体加热机构,其特征在于,所述烹饪表面(8)与权利要求1至10中任一项所述的烹饪表面相同。
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