[发明专利]磁控管源及制造方法

权利要求书

1.一种磁控管源，包括一具有溅镀面及背面的靶材，永久磁铁的磁铁配置沿着该背面，该磁铁配置包括外磁铁配置：其沿着一外几何框形或环形轨迹的主要部分配置，且具有一面对该背面的型态的磁极；及内磁铁配置，其沿着该外几何框形或环形轨迹内的一内几何框形或环形轨迹的主要部分配置，且具有面对该背面的其它型态磁极，该外及内几何轨迹界定一中间空间，该外及内磁铁配置沿着该溅镀面产生一沿着由该内及外几何轨迹所界定的环路的隧道状磁控管磁场，该磁铁配置可以驱动方式沿着及相对于该靶材的背面移动，其特征在于：该磁铁配置包括至少一狭长永久磁铁配置，其沿着一平行于、沿着且远离该背面的轴线延伸及与该中间空间对齐，该狭长配置是以可控制驱动方式以该轴线为中心枢转或旋转及包括沿着且相对于该轴线放射状地配置的永久磁铁偶极。

2.如权利要求1的磁控管源，其中该磁铁配置是以驱动方式以一垂直于该背面的轴线为中心旋转。

3.如权利要求1或2的磁控管源，其中该狭长配置是沿着该轴线的圆柱形及沿着该轴线以永久磁铁较佳地实现所述偶极。

4.如权利要求1至3中任一项的磁控管源，其中所述偶极沿着该轴线互相对齐。

5.如权利要求1至4中任一项的磁控管源，包括一个以上的该狭长永久磁铁，其可互相控制地枢转或旋转。

6.如权利要求5的磁控管源，其中该中间空间是对称于一垂直于或沿着该背面的对称轴及将所述狭长配置设置成与对称于该对称轴的该中间空间对齐。

7.如权利要求1至6中任一项的磁控管源，其中藉由一磁分路构件使该外及内磁铁配置的远离及背向该背面的磁极横跨中间空间互连，该狭长配置是位于该分路构件与该背面之间。

8.如权利要求1至7中任一项的磁控管源，其中该靶材是圆形，该外磁铁配置具有一朝向该圆形靶材的中心的轮幅延伸部(spoke extension)，该外及内磁铁配置因而产生该磁场也横跨该中心且跨接于该中心上方。

9.如权利要求1至8中任一项的磁控管源，其中该靶材是由铁磁性材料所制成。

10.一种制造一涂布有一包括一材料的层的基板的方法，包括下面步骤：在一电场中朝着一具有该材料的靶材的溅镀面产生一封闭环路磁控管磁场；以及沿着该溅镀面移动该磁控管磁场，藉此使该材料溅离该靶材，及以一包括该材料的涂布材料溅镀一远离且面对该溅镀面的基板，其特征在于：藉由至少一狭长磁铁配置，使该磁场相对于该溅镀面额外局部地摆动，该至少一狭长磁铁配置沿着一轴线延伸且可以驱动方式以该轴线为中心枢转或旋转，以及沿着且相对于该轴线具有放射状延伸磁偶极以及在所述偶极的磁场作用在该磁控管磁场上的区域中以该轴线平行于且沿着该靶材的背面方式来安装，在沿着该背面移动该磁控管磁场的同时，一起移入该狭长磁铁配置，以及可控制地枢转或旋转该狭长磁铁配置，以便在该基板上达成该涂层的期望厚度剖面。

11.如权利要求10的方法，其中该材料是铁磁性材料。