[发明专利]溅射靶材的制造方法及溅射靶材有效

专利信息
申请号: 201180009351.3 申请日: 2011-04-11
公开(公告)号: CN102753722A 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 萩原淳一郎;东秀一;神原正三 申请(专利权)人: 株式会社爱发科
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C22C21/12
代理公司: 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 代理人: 武晨燕;张颖玲
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 溅射 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种溅射靶材的制造方法,包括:

形成组织控制的圆盘状的金属板;

通过将所述金属板维持在规定温度以下的同时利用旋转加工使所述金属板的周边部拉深变形,在所述金属板的周边部形成环状的支撑部。

2.根据权利要求1所述的溅射靶材的制造方法,

所述规定温度为130℃。

3.根据权利要求1所述的溅射靶材的制造方法,形成所述支撑部的工序包括:

由旋转加工使所述金属板的周边部拉深变形的工序;

对所述金属板进行冷却的工序;

进一步由旋转加工使所述金属板的周边部拉深变形的工序。

4.根据权利要求3所述的溅射靶材的制造方法,

对所述金属板进行冷却的工序包括对保持所述金属板的模具进行冷却的工序。

5.一种溅射靶材,包括:

圆板状的靶材部,由组织控制的金属材料形成,且具有第一硬度;

环状的支撑部,具有为第一硬度的1.2倍以上的第二硬度,且通过对所述靶材部的周围进行旋转加工而形成。

6.根据权利要求5所述的溅射靶材,

所述金属材料为铝或铝合金。

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