[发明专利]用于汽相淀积源的等容关闭阀有效
申请号: | 201180009699.2 | 申请日: | 2011-02-15 |
公开(公告)号: | CN102762765A | 公开(公告)日: | 2012-10-31 |
发明(设计)人: | B·迪赛尔-维达莱;C·格拉尔 | 申请(专利权)人: | 阿斯特朗非凡安全有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/44 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 赵培训 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 汽相淀积源 关闭 | ||
1.汽相材料淀积源(10),所述汽相材料淀积源包括配备有两个区域的容器:
蒸汽产生区域(20),所述蒸汽产生区域配备有材料接收器和用于加热放置在所述接收器中的材料的装置;
与所述蒸汽产生区域连通的扩散区域,所述扩散区域配置有至少一个孔(30),以便使得所述汽相材料通过所述孔朝着所述容器的外部传送;
所述淀积源的特征在于:
-所述淀积源包括用于关闭所述孔的关闭装置和用于使所述关闭装置在主动关闭位置和所述孔(30)的打开位置之间运动的装置,
-所述淀积源具有蒸汽扩散喷嘴形式的一系列的所述孔(30),
-所述扩散区域包括具有圆筒形本体的扩散器(50),所述蒸汽扩散喷嘴并排放置于所述圆筒形本体上,
-所述关闭装置包括与所述扩散器(50)的内表面接触的圆筒形套筒(70),所述圆筒形套筒(70)一方面包括能将位置调整至对准于打开位置的多个所述蒸汽扩散喷嘴的多个开口(73),另一方面,包括与所述蒸汽产生区域相对的开口(71)。
2.如前述权利要求所述的淀积源,其中,所述圆筒形套筒(70)的构造被设计成在所述扩散器(50)内运动,以便关闭一系列所述蒸汽扩散喷嘴,同时保持所述蒸汽产生区域(20)打开。
3.如前述权利要求所述的淀积源,其中,用于使所述圆筒形套筒(70)运动的装置包括连接于所述圆筒形套筒(70)的轴向杆(72),所述轴向杆穿入所述扩散器(50)。
4.如前述权利要求所述的淀积源,其中,用于使所述圆筒形套筒(70)运动的装置包括用于使所述轴向杆(72)旋转的装置。
5.如权利要求3所述的淀积源,其中,用于使所述圆筒形套筒(70)运动的装置包括用于使轴向杆(72)横向平移的装置。
6.如前述权利要求中任一所述的淀积源,其中,所述扩散器(50)还包括至少一个不受所述圆筒形套筒(70)的运动影响而单独打开的喷嘴(53)。
7.如权利要求3-5中任一所述的淀积源,其中,至少一个独立的喷嘴(53)放置在所述扩散器(50)的轴线上与所述轴向杆(72)相反的一端处。
8.如前述权利要求中任一所述的淀积源,其中,材料接收器包括圆筒形坩埚(21),与所述扩散器(50)连接的圆筒形坩埚的开口(40)具有与所述圆筒形套筒(70)的内径相同的直径。
9.如前述权利要求中任一所述的淀积源,其中,所述扩散区域和所述蒸汽产生区域为管状筒,所述管状筒组合形成一T形,该T形中形成蒸汽产生区域的那一分支在形成扩散器(50)的分支上居中布置。
10.如前述权利要求中任一所述的淀积源,其中,所述关闭装置的构造被设计成:在所述孔(30)打开时,保持所述扩散区域与所述蒸汽产生区域之间的连接。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的