[发明专利]紫外线氧化和超纯水制造的装置及方法

权利要求书

1.一种紫外线氧化装置，其具备有：

流动槽，使被处理水单向流动；

光催化剂纤维，以被处理水可通过方式配置于该流动槽内；

紫外线照射部，可照射紫外线；以及

紫外线照射部收容部，设置于与该流动槽内的被处理水的流动方向交叉的面的整个区域，且收容该紫外线照射部；

该紫外线照射部收容部形成为：使被处理水从上游侧朝所收容的紫外线照射部流入该收容部内，使其于该收容部内流动后，往下游侧流出，且该紫外线照射部收容部由可使来自紫外线照射部的紫外线照射于该光催化剂纤维的材料所构成。

2.根据权利要求1所述的紫外线氧化装置，其中，该紫外线照射部收容部具备有收容紫外线照射部的内管、及覆盖该内管的外管。

3.根据权利要求2所述的紫外线氧化装置，其中，该内管与外管的直径方向的间隔为1～10mm。

4.根据权利要求2或3所述的紫外线氧化装置，其中，该内管与外管由可透射180～190nm与250～260nm的波长的紫外线的材料所构成。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的紫外线氧化装置，其中，该紫外线照射部构成为可照射分别于180～190nm与250～260nm具有峰值波长的紫外线。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的紫外线氧化装置，其中，该紫外线照射部形成长条状，该光催化剂纤维形成平板状，该紫外线照射部的长边方向与该光催化剂纤维的平面方向被设定成为平行。

7.一种超纯水制造装置，其具备有：

逆渗透膜装置，用于除去被处理水中的杂质；

离子交换装置，设置于该逆渗透膜装置的下游，用于除去经该逆渗透膜装置除去杂质的被处理水中的离子成分；

权利要求1至6中任一项的紫外线氧化装置，设置于该离子交换装置的下游，用于分解经该离子交换装置除去离子成分的被处理水中的有机物成分；

混合床离子交换装置，设置于该紫外线氧化装置的下游，用于除去该紫外线氧化装置分解有机物成分而产生于被处理水中的离子成分；以及

超过滤装置，设置于该混合床离子交换装置的下游，用于除去因该逆渗透膜装置以后的处理而产生于被处理水中的粒状物。

8.根据权利要求7所述的超纯水制造装置，其进一步具备有除气装置，被设置于该超过滤装置的上游侧，用于除去被处理水中的气体。

9.根据权利要求8所述的超纯水制造装置，其中，该除气装置至少设置于该逆渗透膜装置与离子交换装置之间及该离子交换装置与该超过滤装置之间。

10.一种紫外线氧化方法，对流动于流动槽内的被处理水中所含的有机物进行氧化分解处理，该流动槽具有：可通过被处理水的光催化剂纤维、可照射紫外线的紫外线照射部、及收容该紫外线照射部且被处理水可在内部流动的紫外线照射部收容部；该紫外线氧化方法具备下述步骤：

在使该紫外线照射部的紫外线照射于该光催化剂纤维的状态下，使被处理水通过该光催化剂纤维的步骤；及

在使该紫外线照射部的紫外线照射于被处理水的状态下，使被处理水流动于该紫外线照射部收容部内的步骤。

11.一种超纯水制造方法，其具备有：

杂质除去步骤，用于除去被处理水中的杂质；

第一离子成分除去步骤，用于除去经该杂质除去步骤处理过的被处理水中的离子成分；

有机物成分分解步骤，是通过权利要求10所述的紫外线氧化方法，将经该第一离子除去步骤处理过的被处理水中的有机物成分加以分解；

第二离子成分除去步骤，用于除去因该有机物成分分解步骤而产生于被处理水中的离子成分；及

粒状物质除去步骤，用于除去该杂质除去步骤以后产生于被处理水中的粒状物质。