[发明专利]图案形成方法及抗蚀剂组成物有效

专利信息
申请号: 201180010800.6 申请日: 2011-02-24
公开(公告)号: CN102844710A 公开(公告)日: 2012-12-26
发明(设计)人: 岩户薰;片冈祥平;樽谷晋司;上村聪;加藤启太;榎本雄一郎;水谷一良;土桥彻;藤井佳奈 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/038 分类号: G03F7/038;G03F7/32
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 图案 形成 方法 抗蚀剂 组成
【权利要求书】:

1.一种图案形成方法,其特征在于,包括:

(A)由包括含有重复单元的树脂的抗蚀剂组成物形成膜,其中所述重复单元含有在受酸作用时即分解以藉此产生醇羟基的基团,所述树脂在受酸作用时降低其在含有有机溶剂的显影剂中的溶解度;

(B)将所述膜曝光;以及

(C)使用含有所述有机溶剂的所述显影剂使经曝光的所述膜显影。

2.根据权利要求1所述的图案形成方法,其中,所述重复单元由至少一个由以下通式(I-1)至(I-10)构成的族群中选出的通式表示:

其中

Ra或各Ra独立地表示氢原子、烷基或具有式-CH2-O-Ra2的任何基团,其中Ra2表示氢原子、烷基或酰基;

R1表示(n+1)价有机基团;

R2或当m≥2时各R2独立地表示单键或(n+1)价有机基团;

OP或各OP独立地表示当受酸作用时即分解以藉此产生醇羟基的基团,其限制条件为当n≥2及/或m≥2时,两个或两个以上OP可彼此键结,藉此形成环;

W表示亚甲基、氧原子或硫原子;

n以及m各自为1或大于1的整数;

1为0或大于0的整数;

L1表示具有式-COO-、-OCO-、-CONH-、-O-、-Ar-、-SO3-或-SO2NH-的连接基团,所述Ar表示二价芳族环基团;

各R独立地表示氢原子或烷基;

R0表示氢原子或有机基团;

L3表示(m+2)价连接基团;

RL或当m≥2时各RL独立地表示(n+1)价连接基团;

RS或当p≥2时各RS独立地表示取代基,其限制条件为当p≥2时,两个或两个以上RS可彼此键结,藉此形成环;且

p为0至3的整数。

3.根据权利要求1或2所述的图案形成方法,其中,所述当受酸作用时即分解以藉此产生醇羟基的基团由至少一个由以下通式(II-1)至(II-9)构成的族群中选出的通式表示:

其中

R3或各R3独立地表示氢原子或单价有机基团,其限制条件为两个R3可彼此键结,藉此形成环;

R4或各R4独立地表示单价有机基团,其限制条件为至少两个R4可彼此键结以藉此形成环,且R3与R4可彼此键结以藉此形成环;

各R5独立地表示氢原子、烷基、环烷基、芳基、烯基或炔基,其限制条件为至少两个R5可彼此键结以藉此形成环,且当三个R5中的一或两个为氢原子时,其余R5中至少一个表示芳基、烯基或炔基;且

各R6独立地表示氢原子或单价有机基团,其限制条件为R6可彼此键结,藉此形成环。

4.根据权利要求1-3任一项所述的图案形成方法,其中,所述重复单元为由以下通式(III)表示的任何重复单元:

其中

R1表示(n+1)价有机基团;

Ra表示氢原子、烷基或具有式-CH2-O-Ra2的任何基团,其中Ra2表示氢原子、烷基或酰基;

各R3独立地表示氢原子或单价有机基团,其限制条件为R3可彼此键结,藉此形成环;

R4或当n≥2时各R4独立地表示单价有机基团,其限制条件为R4可彼此键结以藉此形成环,且R3与R4可彼此键结以藉此形成环;且

n为1或大于1的整数。

5.根据权利要求4所述的图案形成方法,其中,R1表示非芳族烃基。

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