[发明专利]图案形成方法

权利要求书

1.一种图案形成方法，其特征在于，是在对象物的被处理面形成所希望的图案的图案形成方法，包括：

在所述被处理面配置由通式（1）表示的硅烷偶联剂，在所述被处理面上针对所述硅烷偶联剂使光催化剂存在的工序，和

对所述硅烷偶联剂和所述光催化剂，照射光的工序，其中所述光包含所述硅烷偶联剂和所述光催化剂的吸收波长的光；

R¹-R²-SiX¹X²X³    …(1)

式中，R¹表示因光照射而发生脱离的光反应性保护基团，R²表示由于R¹脱离而产生具有与R¹不同的亲疏液性的官能团的有机基团，X¹表示烷氧基或卤素原子，X²、X³表示选自氢原子、烷基、烯基、烷氧基、卤素原子中的取代基，X¹、X²、X³可以相同也可以不同。

2.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中，通式（1）中的R¹为具有氟取代烷基的基团。

3.根据权利要求1或2所述的图案形成方法，其中，在所述照射光的工序后，包括如下工序：

用具有与R¹不同的亲疏液性的取代基对由于通式（1）中的R¹的脱离而在通式（1）中的R²上产生的官能团进行修饰的工序。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的图案形成方法，其中，所述针对硅烷偶联剂使光催化剂存在的工序包括：

在所述对象物上配置所述硅烷偶联剂的工序，和

在所述硅烷偶联剂上涂布所述光催化剂的分散液的工序。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的图案形成方法，其中，所述针对硅烷偶联剂使光催化剂存在的工序包括：

在所述对象物上形成以所述光催化剂作为形成材料的光催化剂层的工序，和

在所述光催化剂层上配置所述硅烷偶联剂的工序。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的图案形成方法，其中，通过涂布所述硅烷偶联剂而配置所述硅烷偶联剂。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的图案形成方法，其中，所述硅烷偶联剂和所述光催化剂的吸收波长在相同的波长区域。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的图案形成方法，其中，在所述照射光的工序后，包括如下工序：

在所述图案中相对地显示亲液性的区域涂布图案形成材料的溶液或分散液的工序。