[发明专利]涂装膜的检查装置及检查方法

权利要求书

1.一种涂装膜的检查装置，其特征在于，具有：

发生太赫兹波的太赫兹波发生器；

将所述太赫兹波向形成有膜的试料照射的照射光学系统；

对在所述试料被反射的太赫兹波进行检测的太赫兹波检测器；以及

控制部，其将检测出的太赫兹波的电场强度表示成时间轴的波形数据，从波形数据检测多个波峰，并基于波峰间的时间差算出膜厚。

2.如权利要求1所述的涂装膜的检查装置，其特征在于，所述控制部按照预先输入的波峰图案，从所述波形数据检测多个波峰。

3.如权利要求1或2所述的涂装膜的检查装置，其特征在于，所述控制部从所述波形数据按振幅大的顺序检测波峰。

4.如权利要求1~3中任一项所述的涂装膜的检查装置，其特征在于，所述控制部检测处于与预先输入的膜厚范围对应的时间范围内的多个波峰。

5.如权利要求1~4中任一项所述的涂装膜的检查装置，其特征在于，所述控制部检测处于预先输入的强度比范围内的多个波峰。

6.一种涂装膜的检查装置，其特征在于，具有：

发生太赫兹波的太赫兹波发生器；

将所述太赫兹波向金属涂装试料照射的照射光学系统；

对在所述试料被反射的太赫兹波的多个偏光成分进行检测的太赫兹波检测器；以及

基于检测出的多个偏光成分算出金属涂装试料的指标值的控制部。

7.如权利要求6所述的涂装膜的检查装置，其特征在于，还具有旋转机构，该旋转机构使所述太赫兹波检测器相对于反射后的太赫兹波的光轴旋转规定角度，由此检测多个偏光成分。

8.如权利要求7所述的涂装膜的检查装置，其特征在于，所述规定角度为大致45度，所述太赫兹波检测器检测旋转前后的2个偏光成分。

9.如权利要求6~8中任一项所述的涂装膜的检查装置，其特征在于，所述太赫兹波检测器具有偶极子天线式的检测器。

10.如权利要求6~8中任一项所述的涂装膜的检查装置，其特征在于，所述太赫兹波检测器具有电光晶体。

11.一种涂装膜的检查方法，其特征在于，具有：

发生太赫兹波的工序；

将所述太赫兹波向形成有膜的试料照射的工序；

对在所述试料被反射的太赫兹波进行检测的工序；

将检测出的太赫兹波的电场强度表示成时间轴的波形数据，从波形数据检测多个波峰，并基于波峰间的时间差算出膜厚的工序。

12.如权利要求11所述的涂装膜的检查方法，其特征在于，所述算出工序根据预先输入的波峰图案，从所述波形数据检测多个波峰。

13.如权利要求11或12所述的涂装膜的检查方法，其特征在于，所述算出工序从所述波形数据按振幅大的顺序检测波峰。