[发明专利]组织清创术系统和方法

权利要求书

1.一种用于从患者的组织部位去除所不希望的组织的系统，该系统包括：

一个治疗头；

一个工作气体供给源，用于将一种工作气体供给该治疗头；

一个二氧化碳源，用于将固体二氧化碳颗粒供给该治疗头；

一个供给导管，该供给导管流体连接至该工作气体供给源和该二氧化碳源上用于接收该工作气体和固体二氧化碳颗粒；

该治疗头形成有用于紧邻所不希望的组织放置的一个治疗腔，其中该治疗头被流体连接至该供给导管上用于接收该工作气体和固体二氧化碳颗粒并在一个所希望的位置将该工作气体和固体二氧化碳颗粒递送至组织部位；

该治疗头形成有开放进入该治疗腔的一个递送孔以及开放进入该治疗腔的一个去除孔，其中该治疗头被配置成使得该工作气体和固体二氧化碳颗粒穿过该治疗腔在该递送孔与该去除孔之间的运动产生一个低压区域，该低压区域是可操作的以便使所不希望的组织向该治疗腔移动；

一个流体连接至该治疗头上的抽吸导管；

其中该治疗头被适配成致使固体二氧化碳颗粒在该治疗腔内撞击在所不希望的组织的至少一部分上以便去除所不希望的组织；并且

其中该治疗头以及该抽吸导管被适配成带走所不希望的组织。

2.如权利要求1所述的用于去除所不希望的组织的系统，进一步包括：

一个减压源，用于向该治疗头供给减压；

其中该抽吸导管被流体连接至该减压源；并且

其中该治疗头以及该抽吸导管被适配成在减压下带走所不希望的组织。

3.如权利要求1或权利要求2所述的用于去除所不希望的组织的系统，其中该二氧化碳源是可操作的以便控制固体二氧化碳颗粒的进料速度。

4.如权利要求1或权利要求2所述的用于去除所不希望的组织的系统，其中该治疗头包括一个治疗头本体，该治疗头本体形成有一个递送导管、治疗腔、以及一个去除导管；

其中该递送孔开放进入该治疗腔中并且该递送导管被流体连接至该治疗腔以及该工作气体供给源；

其中该去除孔开放进入该治疗腔中并且该去除导管被流体连接至该治疗腔以及该减压源；并且

其中该递送孔和去除孔是基本上对齐的。

5.如权利要求1或权利要求2所述的用于去除所不希望的组织的系统，

其中该治疗头包括一个治疗头本体，该治疗头本体形成有一个递送导管、治疗腔、以及一个去除导管；

其中该递送孔开放进入该治疗腔中并且该递送导管被流体连接至该治疗腔以及该工作气体供给源；

其中该去除孔开放进入该治疗腔中并且该去除导管被流体连接至该治疗腔以及该减压源；并且

其中该递送孔和去除孔实质上是未对准的。

6.如权利要求1或权利要求2所述的用于去除所不希望的组织的系统，其中该系统进一步包括一个收集构件，该收集构件被流体连接至该治疗头以及该减压源以便接收所不希望的组织。

7.如权利要求1或权利要求2所述的用于去除所不希望的组织的系统，其中该系统进一步包括连接至该二氧化碳源的一个二氧化碳开关，该二氧化碳开关用于控制来自该二氧化碳源的固体二氧化碳颗粒的进料速度。

8.如权利要求1或权利要求2所述的用于去除所不希望的组织的系统，进一步包括：

与该工作气体供给源以及该二氧化碳源相关联的一个主控制器，该主控制器包括：

一个工作气体控制开关，用于控制该工作气体从该工作气体供给源转移到该治疗头的量，以及

一个二氧化碳开关，用于控制从该二氧化碳源转移进入该工作气体中的固体二氧化碳颗粒的量。

9.如权利要求1或权利要求2所述的用于去除所不希望的组织的系统，进一步包括：

与该工作气体供给源以及该二氧化碳源相关联的一个脚踏板，该脚踏板包括：

一个工作气体控制开关，用于控制从该工作气体供给源转移到该治疗头的该工作气体的量，以及

一个二氧化碳开关，用于控制从该二氧化碳源转移进入该工作气体中的固体二氧化碳颗粒的量。

10.如权利要求1或权利要求2所述的用于去除所不希望的组织的系统，进一步包括：

与该工作气体供给源以及该二氧化碳源相关联的一个主控制器，该主控制器包括：

一个治疗混合物开关，用于控制从该工作气体供给源以及该二氧化碳源转移到该治疗头的固体二氧化碳颗粒以及该工作气体的量。