[发明专利]半导体芯片、半导体晶片以及半导体芯片的制造方法有效

专利信息
申请号: 201180011729.3 申请日: 2011-05-13
公开(公告)号: CN102782804A 公开(公告)日: 2012-11-14
发明(设计)人: 内田正雄;林将志 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02;H01L21/28;H01L29/06;H01L29/12;H01L29/417;H01L29/47;H01L29/78;H01L29/861;H01L29/872
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 芯片 晶片 以及 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体芯片,其形成有功率半导体装置,且具备由六方晶系半导体构成的半导体基板,

所述半导体基板在主面具有矩形形状,

对所述矩形进行规定的2边的长度a以及b相等,并且,

所述半导体基板的与所述2边平行的方向上的线膨胀系数彼此相等。

2.一种半导体芯片,其形成有功率半导体装置,且具备由六方晶系半导体构成的半导体基板,

所述半导体基板在主面具有矩形形状,

对所述矩形进行规定的2边的长度a以及b相等,并且,

所述2边中的1边与所述六方晶系半导体的<11-20>方向所构成的角以及所述2边中的另1边与所述六方晶系半导体的<1-100>方向所构成的角度分别为15°。

3.根据权利要求1或2所述的半导体芯片,其中,

所述功率半导体装置具有:

功率半导体元件,其形成在所述半导体基板上;和

保护膜,其按照覆盖所述功率半导体元件的至少一部分的方式设置在所述半导体基板上,具备各向同性的机械物性。

4.根据权利要求3所述的半导体芯片,其中,

所述功率半导体元件具有外延层,该外延层形成在所述半导体基板的主面上,由与所述半导体基板相同的材料构成。

5.根据权利要求3所述的半导体芯片,其中,

所述保护膜含有氮化硅以及氧化硅的至少一方。

6.根据权利要求3~5中任一项所述的半导体芯片,其中,

所述功率半导体元件包含具有各向同性的机械物性的布线电极。

7.根据权利要求6所述的半导体芯片,其中,

所述布线电极由铝、铜、或者包含铝和铜的至少1种的合金构成。

8.根据权利要求1~7中任一项所述的半导体芯片,其中,

所述半导体基板的所述主面与所述六方晶系半导体的(0001)面或(000-1)面所构成的角θ满足下述式子,

-10°≤θ≤10°。

9.根据权利要求1~8中任一项所述的半导体芯片,其中,

所述半导体基板是碳化硅半导体基板。

10.根据权利要求1~8中任一项所述的半导体芯片,其中,

所述半导体基板是氮化镓半导体基板。

11.根据权利要求1~10中任一项所述的半导体芯片,其中,

所述功率半导体元件是金属-绝缘体-半导体场效应晶体管、pn结型二极管或者肖特基势垒二极管。

12.根据权利要求1~10中任一项所述的半导体芯片,其中,

所述功率半导体元件是开关元件或整流元件。

13.一种半导体晶片,其具备:

由六方晶系半导体构成的晶片;和

在所述晶片上形成的多个功率半导体装置,

所述晶片在与主面平行的面上,具有基于晶体方位的机械物性的各向异性,

在所述晶片的周围的至少一部分设置有对所述六方晶系半导体的晶体取向进行规定的标记,

所述标记所规定的方向与所述六方晶系半导体的<11-20>方向或<1-100>方向所构成的角β满足下述式(1),

在所述主面上,所述多个功率半导体装置分别具有由矩形规定的区域,

对所述矩形进行规定的2边中的一边与所述标记所规定的方向所构成的角γ满足下述式(2)或(2’),

-5°≤β≤5°    (1)

10°≤γ≤20°   (2)

40°≤γ≤50°   (2’)。

14.根据权利要求13所述的半导体晶片,其中,

所述标记为定向平面。

15.根据权利要求13所述的半导体晶片,其中,

所述标记为槽口。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180011729.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top