[发明专利]电阻变化器件以及存储器基元阵列有效
申请号: | 201180011998.X | 申请日: | 2011-03-11 |
公开(公告)号: | CN102782847A | 公开(公告)日: | 2012-11-14 |
发明(设计)人: | 藤井章辅;松下大介;三谷祐一郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L27/105 | 分类号: | H01L27/105;H01L45/00;H01L49/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 杨晓光;于静 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电阻 变化 器件 以及 存储器 阵列 | ||
1.一种电阻变化器件,包括:
包含金属的第一电极;
第二电极;以及
在所述第一和第二电极之间的包含Si和O的非晶氧化物层,该层在从所述第一电极到所述第二电极的方向上具有O的浓度梯度及其第一峰值。
2.根据权利要求1的器件,
其中,所述氧化物层具有沿所述方向的所述浓度梯度的第二峰值。
3.根据权利要求1的器件,
其中,所述氧化物层具有沿所述方向的所述浓度梯度的包括所述第一峰值的多个峰值。
4.根据权利要求1的器件,
其中,所述器件通过将所述第一和第二电极之间的电压改变到选自彼此不同的两个或更多个值中的一个来存储多值数据。
5.根据权利要求4的器件,
其中,所述多值数据的值由在所述第一和第二电极之间提供的且包含所述金属的丝极的长度确定。
6.根据权利要求1的器件,
其中,所述金属为Ag、Ti、Ni、Co、Al、Cr、Cu、W、Hf、Ta以及Zr中的一种。
7.根据权利要求1的器件,
其中,所述第二电极为掺杂有杂质的Si。
8.一种存储器基元阵列,包括:
多个第一布线,其包含金属并向第一方向延伸;
多个第二布线,其向与所述第一方向相交的第二方向延伸;以及
多个存储器基元,其被设置在所述第一和第二布线之间,所述多个存储器基元中的每一个包括电阻变化元件,
其中,所述电阻变化元件包括包含Si和O的非晶氧化物层,并在与所述第一和第二方向相交的第三方向上具有O的浓度梯度及其第一峰值。
9.根据权利要求8的阵列,
其中,所述氧化物层具有沿所述第三方向的所述浓度梯度的第二峰值。
10.根据权利要求8的阵列,
其中,所述氧化物层具有沿所述第三方向的所述浓度梯度的包括所述第一峰值的多个峰值。
11.根据权利要求8的阵列,
其中,所述多个存储器基元中的一个所选择的存储器基元通过将所述多个第一布线中的所选择的第一布线与所述多个第二布线中的所选择的第二布线之间的电压改变到选自彼此不同的两个或更多个值中的一个来存储多值数据。
12.根据权利要求11的阵列,
其中,所述多值数据的值由在所述所选择的第一布线和所述所选择的第二布线之间提供的且包含所述金属的丝极的长度确定。
13.根据权利要求8的阵列,
其中,所述金属为Ag、Ti、Ni、Co、Al、Cr、Cu、W、Hf、Ta以及Zr中的一种。
14.根据权利要求8的阵列,
其中,所述第二布线为掺杂有杂质的Si。
15.一种电阻变化器件,包括:
多个第一电极,每一个所述第一电极包含金属且沿第一方向设置;
多个第二电极,其沿所述第一方向设置,并在与所述第一方向相交的第二方向上逐一面向各所述第一电极;以及
在所述第一电极与所述第二电极之间的包含Si和O的非晶氧化物层,该层在所述第二方向上具有O的浓度梯度及其第一峰值。
16.根据权利要求15的器件,
其中,所述氧化物层具有沿所述第二方向的所述浓度梯度的第二峰值。
17.根据权利要求15的器件,
其中,所述氧化物层具有沿所述第二方向的所述浓度梯度的包括所述第一峰值的多个峰值。
18.根据权利要求15的器件,
其中,所述器件通过将所述第一电极和所述第二电极之间的电压改变到选自彼此不同的两个或更多个值中的一个来在所述第一电极与所述第二电极之间的一部分中存储多值数据。
19.根据权利要求18的器件,
其中,所述多值数据的值由在所述第一电极中的一个和所述第二电极中的一个之间提供的且包含所述金属的丝极的长度确定。
20.根据权利要求15的器件,
其中,所述金属为Ag、Ti、Ni、Co、Al、Cr、Cu、W、Hf、Ta以及Zr中的一种。
21.根据权利要求15的器件,
其中,所述第二电极为掺杂有杂质的Si。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的