[发明专利]用于涂覆活塞环的至少内部面的方法和活塞环有效
| 申请号： | 201180012801.4 | 申请日： | 2011-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN103620085B | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 迪尔克·巴伦罗伊特;马卡斯·肯尼迪;马卡斯·凯勒;拉尔夫·拉姆斯 | 申请（专利权）人： | 菲特尔莫古布尔沙伊德有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/02 | 分类号： | C23C16/02;F16J9/00 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人： | 吴大建;刘华联 |
| 地址： | 德国博*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 活塞环 至少 内部 方法 | ||
1.用于至少部分地涂覆活塞环的至少内部面的方法，所述活塞环优选由铸铁或钢制成，其中通过PA-CVD、辉光放电和/或HIPIMS方法中的至少一种来施加PVD和/或DLC层。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂层实施为具有0.1μm到10μm的整体厚度。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述PVD层包括交替地或同时地沉积的铬、钛、铝和/或钨的氮化物和/或碳化物。
4.根据权利要求1到3中任一项所述的方法，其特征在于，所述PVD层具有800到4000HV0.1的硬度。
5.根据上述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述DLC层包括至少一个、优选为全部的下述层：具有1.0μm或更小的层厚度的铬和/或钛的粘结层；至少一个具有0.1μm到5μm的层厚度的含金属的中间层，所述中间层为a-C:H:Me型，其中Me=钨、钛和/或铬，或者为a-C:H:X型，其中X=硅、锗、氟、硼、氧和/或氮；以及具有0.1μm到5μm的层厚度的a-C:H型的无金属的顶层。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述含金属的DLC层含有纳米晶金属或金属碳化物沉积物，例如WC、CrC、SiC、GeC和/或TiC。
7.根据上述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述DLC层的硬度为从2000到5000HV0.002。
8.一种具有涂层的活塞环，所述涂层至少部分地形成在内部面上，并且具有至少一个优选地通过PA-CVD、辉光放电和/或HIPIMS施加的PVD和/或DLC层。
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