[发明专利]两阶段热对流装置及其用途

权利要求书

1.一种适于进行热对流PCR的装置，其包含：

(a)用于对槽进行加热或冷却并且包含上表面和下表面的第一热源，所述槽适于容纳进行PCR的反应容器，

(b)用于对所述槽进行加热或冷却并且包含上表面和下表面的第二热源，所述下表面朝向所述第一热源的上表面，其中所述槽由接触所述第一热源的底端和与所述第二热源的上表面邻接的通孔限定，并且其中所述底端与所述通孔之间的中心点形成槽轴，围绕其布置所述槽，

(c)至少一个温度成形元件，如位于所述槽周围并且在所述第二或第一热源之至少一部分中的室，所述室包含所述第二或第一热源与所述槽之间的室间隙，所述室间隙足以降低所述第二或第一热源与所述槽之间的热传递；以及

(d)所述第一热源内适于容纳所述槽的接收孔。

2.权利要求1所述的装置，其中所述装置包含位于所述第一热源的上表面与所述第二热源的下表面之间的第一绝热体。

3.权利要求1至2中任一项所述的装置，其中所述装置包含第一室，其完全位于所述第二热源内并且包含沿所述槽轴朝向第一室底端的第一室顶端。

4.权利要求3所述的装置，其中所述装置还包含位于所述第二热源内的第二室。

5.权利要求4所述的装置，其中所述装置还包含位于所述第二热源内的第三室。

6.权利要求1至2中任一项所述的装置，其中所述第一室位于所述第一热源内并且包含沿所述槽轴朝向第一室底端的第一室顶端。

7.权利要求6所述的装置，其中所述装置还包含位于所述第二热源内的第二室。

8.权利要求7所述的装置，其中所述装置还包含位于所述第二热源内的第三室。

9.权利要求3至8中任一项所述的装置，其中所述室还包含至少一个围绕所述槽轴布置的室壁。

10.权利要求9所述的装置，其中所述室进一步由所述槽沿所述槽轴限定。

11.权利要求9所述的装置，其中所述室壁布置成基本平行于所述槽轴。

12.权利要求9至11中任一项所述的装置，其中所述第一室顶端和所述第一室底端各自基本垂直于所述槽轴。

13.权利要求2至12中任一项所述的装置，其中所述第一绝热体包含固体或气体。

14.权利要求3至12中任一项所述的装置，其中至少一个室包含固体或气体。

15.权利要求14所述的装置，其中所述第一绝热体包含固体或气体。

16.权利要求13至15中任一项所述的装置，其中所述气体是空气。

17.权利要求1至16中任一项所述的装置，其中所述槽进一步由沿所述槽轴从所述槽的底端至所述通孔的顶端的高度(h)限定。

18.权利要求17所述的装置，其中所述槽进一步由沿基本垂直于所述槽轴的第一方向的第一宽度(w1)限定。

19.权利要求18所述的装置，其中所述槽进一步由基本垂直于所述第一方向和所述槽轴的第二宽度(w2)限定。

20.权利要求18至19中任一项所述的装置，其中所述第一和/或第二宽度(w1和/或w2)从所述顶端到所述底端沿所述槽轴减小。

21.权利要求20所述的装置，其中所述槽的所述第一和第二宽度(w1或w2)由约0°至约15°的锥角(θ)限定。

22.权利要求18至19中任一项所述的装置，其中所述第一和/或第二宽度(w1和/或w2)沿所述槽轴基本不变。

23.权利要求17至22中任一项所述的装置，其中所述槽的底端是圆的、平的或弯曲的。

24.权利要求17至23中任一项所述的装置，其中所述高度(h)至少为约5mm至约25mm。

25.权利要求17至24中任一项所述的装置，其中所述第一或第二宽度(w1或w2)沿所述槽轴的平均值至少为约1mm至约5mm。