[发明专利]气溶胶的液体基清除

权利要求书

1.一种减少含有气体的气溶胶中气溶胶的方法，其特征在于，该方法包括将所述含有气体的气溶胶与液体接触，其中

a、所述气溶胶含有气溶胶化合物；

b、所述液体含有液体化合物，并且其中所述液体含有气溶胶的液体冷凝物；

c、所述液体具有比所述含有气体的气溶胶更高的温度，并且其中温度差在5-200℃的范围内；以及

d、所述液体具有比所述含有气体的气溶胶的露点更低的温度，其中所述含有气体的气溶胶的露点温度与所述液体的温度之间的差值在5-200℃的范围内。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述液体和含有气体的气溶胶之间的温度差在5-30℃的范围内。

3.根据权利要求1-2中任意一项所述的方法，其中，所述含有气体的气溶胶的露点温度与所述液体的温度之间的差值在5-30℃的范围内。

4.根据上述权利要求中任意一项所述的方法，其中，所述气溶胶化合物包括有机化合物。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述液体化合物包括有机化合物。

6.根据权利要求1-5中任意一项所述的方法，其中，所述气溶胶化合物和所述液体化合物是极性的。

7.根据权利要求1-5中任意一项所述的方法，其中，所述气溶胶化合物和所述液体化合物是非极性的。

8.根据上述权利要求中任意一项所述的方法，其中，所述液体为有机液体。

9.根据上述权利要求中任意一项所述的方法，其中，所述含有气体的气溶胶含有焙烧过程的（至少部分清洁的）尾气。

10.根据上述权利要求中任意一项所述的方法，其中，所述含有气体的气溶胶含有气化过程的（至少部分清洁的）尾气。

11.根据上述权利要求中任意一项所述的方法，其中，所述气溶胶化合物包括无机化合物。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述液体化合物包括无机化合物。

13.根据权利要求11-12中任意一项所述的方法，其中，一种或多种所述气溶胶化合物和所述无机液体化合物含有无机盐。

14.根据权利要求11-13中任意一项所述的方法，其中，所述液体为无机液体。

15.根据上述权利要求中任意一项所述的方法，其中，所述含有气体的气溶胶与无机液体和有机液体都接触。

16.根据上述权利要求中任意一项所述的方法，其中，接触在所述含有气体的气溶胶和所述液体反向流动的反应器中进行。

17.根据上述权利要求中任意一项所述的方法，其中，接触在反应器中进行，并且其中在所述反应器中喷雾或雾化所述液体。

18.根据上述权利要求中任意一项所述的方法，其中，接触在有床层的反应器中进行。

19.根据上述权利要求中任意一项所述的方法，其中，接触在反应器中进行，并且其中将所述含有气体的气溶胶注入所述液体中。

20.气溶胶的冷凝物在清除含有气体的气溶胶中的气溶胶的应用，其中，在含有气体的气溶胶中的所述气溶胶和在所述液体冷凝物中的所述气溶胶相同。

21.根据权利要求20所述的应用，其中，所述液体冷凝物含有多种气溶胶并且其中所述含有气体的气溶胶含有多种气溶胶，并且其中在所述含有气体的气溶胶中的一种或多种所述气溶胶和在所述液体冷凝物中的所述气溶胶相同。