[发明专利]负载型气体分离膜的制造方法和设备有效
申请号: | 201180016108.4 | 申请日: | 2011-03-24 |
公开(公告)号: | CN102821831A | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | J·C·索凯蒂斯 | 申请(专利权)人: | 国际壳牌研究有限公司 |
主分类号: | B01D53/22 | 分类号: | B01D53/22;B01D71/02;B01D69/10;B01D67/00;C01B3/50 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈文平 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 负载 气体 分离 制造 方法 设备 | ||
1.制造复合气体分离组件的方法,其中所述方法包括:
提供其上具有带表面的金属膜层的多孔载体;
在所述表面和所述金属膜层上施加提供具有增强的活化性能的用于在其上铺置随后的金属膜层的活化表面的表面形态;
将所述随后的金属膜层铺置到所述活化的表面上;和
退火所述随后的金属膜层以提供退火的金属层。
2.如权利要求1所述的方法,其中所述表面形态包括一定的粗糙性,其中对于所述活化表面上任意选定的表面区域,所述任意选定的表面区域的平均表面粗糙度(Sa)在0.05μm到0.8μm范围内。
3.如权利要求2所述的方法,其中在所述任意选定的表面区域内的所述平均表面粗糙度在0.1μm到0.6μm范围内。
4.如权利要求3所述的方法,其中在所述任意选定的表面区域内的所述粗糙性具有0.1μm到1μm范围内的均方根粗糙度(Sq)。
5.如权利要求4所述的方法,其中在所述任意选定的表面区域内的所述粗糙性具有-0.6到0范围内的偏斜度。
6.如权利要求5所述的方法,其中在所述任意选定的表面区域内的所述粗糙性具有0到10范围内的峰度。
7.如权利要求1所述的方法,其中所述表面形态包括交叉线,其中所述交叉线以10到90度的角度范围交叉且所述交叉线的深度在0.1到1.5微米范围内;其中所述表面形态包括一定的粗糙性,其中对于所述活化表面上任意选定的表面区域,所述任意选定的表面区域的平均表面粗糙度(Sa)在0.05μm到0.8μm范围内;且其中在所述任意选定的表面区域内的所述粗糙性具有在0.1μm到1μm范围内的均方根粗糙度(Sq)。
8.制造复合气体分离组件的系统,其中所述系统包括:
在其上具有带表面的金属膜层的多孔载体;
用于在所述表面和所述金属膜层上施加提供具有增强的活化性能的用于在其上铺置随后的金属膜层的活化表面的表面形态的装置;
用于将所述随后的金属膜层铺置到所述活化表面的装置;和
用于退火所述随后的金属膜层以提供退火的金属层的装置。
9.如权利要求8所述的系统,其中所述用于施加的装置包括具有平均粒径在1到10微米范围内的研磨颗粒的抛光纸;且其中所述抛光纸的所述研磨颗粒包括选自碳化硅、α-氧化铝、氧化锆、二氧化铈、氧化钇、钙、镁及其组合物的化合物材料。
10.如权利要求8所述的系统,其中所述用于施加的装置包括与所述多孔载体相同方向旋转的研磨设备,其中所述研磨设备沿着所述多孔载体的旋转轴移动。
11.如权利要求8所述的系统,其中所述表面形态包括一定的粗糙性,其中对于所述活化表面上的任意选定的表面区域,所述任意选定的表面区域的平均表面粗糙度在0.2到0.5微米范围内。
12.如权利要求11所述的系统,其中所述任意选定的表面区域内的所述粗糙性具有在0.2到0.5微米范围内的均方根。
13.如权利要求12所述的系统,其中所述任意选定的表面区域内的所述粗糙性具有在-0.6到0范围内的偏斜度。
14.如权利要求13所述的系统,其中所述任意选定的表面区域内的所述粗糙性具有在0到10范围内的峰度。
15.如权利要求14所述的系统,其中所述表面形态包括交叉线,其中所述交叉线以10-90度角度范围交叉且所述交叉线的深度在0.1到1.5微米范围内。
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