[发明专利]基板保持装置有效
申请号: | 201180016263.6 | 申请日: | 2011-03-16 |
公开(公告)号: | CN102870205A | 公开(公告)日: | 2013-01-09 |
发明(设计)人: | 森本直树;石田正彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人: | 齐永红 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 保持 装置 | ||
1.一种基板保持装置,用于在进行等离子处理的处理室内吸附基板,其特征在于包括:
卡盘本体,其具有正负电极;作为电介质的卡板,其具有在可与基板的外周边部面接触的挡边部及在所述挡边部所围绕出的内部空间中以规定间隔竖直设立的多个支持部;直流电源,其向两电极间施加直流电压;第一测量装置,其测量通过卡板的静电电容的交流电流;以及
设置有去除装置,其在所述等离子处理过程中,从处理室内发生的等离子体去除重叠于所述交流电流的交流成分。
去除叠加于所述交流电流的来自于等离子处理过程中处理室内产生的等离子体的交流成分。
2.根据权利要求1所述的基板保持装置,其特征在于还包括:
控制所述直流电源及交流电源启动的控制装置,该控制装置控制施加在两电极间的直流电压,以使第一测量装置所测量的交流电流値在规定的范围内。
3.根据权利要求1或2所述的基板保持装置,其特征在于还包括:
气体导入装置,其将规定的气体导入所述内部空间;第二测量装置,其测定导入该内部空间的气体流量,其中
所述控制装置控制施加在两电极间的直流电压,以使第二测量装置所测量的气体流量在规定的范围内。
4.根据权利要求1~3中任意一项所述的基板保持装置,其特征在于:
所述去除装置,是作为截止特定频带的交流成分的滤波电路或截止特定频带的交流成分的滤波器而发挥作用的数字信号处理器。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造