[发明专利]低发射率的EMI屏蔽窗膜

权利要求书

1.一种低发射率透明复合薄膜，其包含：

透明薄膜衬底；

底层，所述底层由耐磨硬涂层材料构成并与所述透明薄膜衬底相容；以及

至少一个红外线反射层；

所述复合薄膜的发射率低于约0.30，并且其中所述底层被布置在所述透明薄膜衬底与所述红外线反射层之间。

2.如权利要求1所述的复合物，其中所述红外线反射层包含：金属层，所述金属层是选自由铝、铜、金、镍、银、铂、钯、钨、钛或其合金所组成的组。

3.如权利要求2所述的复合物，其进一步包含：透明保护性顶涂层，所述透明保护性顶涂层的干燥厚度小于约0.5微米，其中所述保护性顶涂层被布置在所述红外线反射层上方。

4.如权利要求1所述的复合物，其中所述底层的磨损雾度差量小于约5%。

5.如权利要求3所述的复合物，其中所述红外线反射层包括：能够保护所述红外线反射层的至少一个薄金属薄膜。

6.如权利要求5所述的复合物，其中所述薄金属薄膜是由金属构成，所述金属是选自由镍、铬、铌、铂、钴、锌、钼、锆、钒及其合金所组成的组。

7.如权利要求6所述的复合物，其中所述薄金属薄膜是由镍-铬合金构成。

8.如权利要求2所述的复合物，其中所述红外线反射层包括：至少一个间隔层，所述间隔层是由透明导电层、介电层或其组合构成。

9.如权利要求8所述的复合物，其中所述间隔层包含选自由氧化铟、氧化铟锌或氧化铟锡所组成的组的材料。

10.如权利要求1所述的复合物，其中所述红外线反射层包含：多个薄间隔层，所述间隔层布置在多个透明导电层之间。

11.一种低发射率透明复合薄膜，其包含：

透明薄膜衬底；

底层，所述底层由耐磨硬涂层材料构成并与所述透明薄膜衬底相容；以及

至少一个红外线反射层；

所述复合薄膜的发射率低于约0.25。

12.如权利要求11所述的复合物，其中所述复合薄膜的发射率低于约0.20。

13.如权利要求12所述的复合物，其中所述复合薄膜的可见光透射率高达约75%。

14.如权利要求11所述的复合物，其中所述复合薄膜的发射率低于约0.10。

15.如权利要求14所述的复合物，其中所述复合薄膜的可见光透射率约28%至约47%。

16.如权利要求14所述的复合物，其中所述复合薄膜的可见光透射率高达约70%。

17.如权利要求11所述的复合物，其中所述耐磨硬涂层材料是选自由高度交联聚合物涂层，热硬化丙烯酸酯涂层，基于硅酸盐、钛酸盐、锆酸盐或其混合物的热硬化溶胶凝胶涂层，混合有机－无机溶胶凝胶材料，热硬化硅氧烷硬涂层以及热硬化聚丙烯酸酯涂层所组成的组。

18.如权利要求17所述的复合物，其中所述底层是由含有金属氧化物纳米粒子的紫外线硬化聚丙烯酸酯组合物构成。

19.如权利要求11所述的复合物，其中所述红外线反射层包含：金属层，所述金属层是选自由铝、铜、金、镍、银、铂、钯、钨、钛或其合金所组成的组。

20.一种制造低发射率透明复合薄膜的方法，所述方法包括：

提供透明薄膜衬底；

混合包含聚丙烯酸酯组合物的耐磨硬涂层材料以形成混合物；

涂布所述混合物至所述透明薄膜衬底的一侧；

硬化所述衬底的镀膜侧以形成底层；以及

在所述底层上溅镀红外线反射层。