[发明专利]改进的用于沉积的悬臂

权利要求书

1.一种装置，包括：

至少一个悬臂，包括前表面、第一侧边缘、第二侧边缘、作为自由端的第一端以及作为非自由端的第二端，

其中所述前表面包括：

布置在第一悬臂侧边缘的至少一个第一侧壁和布置在与所述第一悬臂侧边缘相对的第二悬臂侧边缘的至少一个第二侧壁；

至少一个通道，适用于保持流体，所述通道被布置在所述第一侧壁与第二侧壁之间，其中所述通道、所述第一侧壁和所述第二侧壁朝向所述悬臂的自由端延伸，但未抵达所述自由端，以及

基部区，具有由所述第一侧边缘、所述第二侧边缘以及所述悬臂的自由端、还有所述第一侧壁、第二侧壁以及所述通道限定的边界，

其中所述基部区包括从所述悬臂的前表面向外延伸的尖端。

2.如权利要求1所述的装置，其中所述通道被制成锥形，并具有随着所述通道向所述基部区延伸而逐渐变窄的宽度。

3.如权利要求1所述的装置，其中所述第一侧壁和第二侧壁被制成锥形，并具有随着它们向所述基部区延伸而逐渐变窄的宽度。

4.如权利要求1所述的装置，其中所述基部区与所述通道的底部表面基本齐平。

5.如权利要求1所述的装置，其中第一侧边缘和所述第二侧边缘不平行，并且所述悬臂接近所述自由端而变窄。

6.如权利要求1所述的装置，其中所述悬臂的前表面的面积小于约10，000平方微米。

7.如权利要求1所述的装置，其中所述悬臂的前表面的面积小于约2，700平方微米。

8.如权利要求1所述的装置，其中所述侧壁具有至少约200nm的高度。

9.如权利要求1所述的装置，其中所述侧壁具有至少约400nm的高度。

10.如权利要求1所述的装置，其中所述通道具有约10微米到约200微米的长度。

11.如权利要求1所述的装置，其中所述通道具有约50微米或更少的最大宽度。

12.如权利要求1所述的装置，其中所述悬臂的前表面是亲水的。

13.如权利要求1所述的装置，其中对所述悬臂的前表面不进行改变亲水性或疏水性的处理。

14.如权利要求1所述的装置，其中所述尖端是纳米观尖端。

15.如权利要求1所述的装置，其中所述尖端是没有孔或洞的实心尖端。

16.如权利要求1所述的装置，其中所述尖端的特征在于尖端的半径小于约20微米。

17.如权利要求1所述的装置，其中所述尖端具有小于约3微米的尖端高度。

18.如权利要求1所述的装置，其中所述第一侧壁、所述第二侧壁和所述通道均被制成在向所述自由端移动时变得更窄的锥形。

19.如权利要求1所述的装置，其中所述第一侧壁、所述第二侧壁和所述通道均被制成在向所述自由端移动时变得更窄的锥形，并且所述第一侧壁和第二侧壁至少变窄4微米，而所述通道至少变窄15微米。

20.如权利要求1所述的装置，其中所述悬臂是A框架型悬臂或者跳板型悬臂。

21.一种被配置为传递流体以形成微观或纳米观图案的系统，所述系统包括：

至少一个微束阵列；以及

控制装置，被配置为控制所述微束阵列的移动；

其中每个微束包括：

端部；

尖端，从所述端部的基部区伸出；

通道，沿着所述微束设置并与所述基部区流体连通，其中所述通道具有侧壁；以及

其中所述基部区从所述侧壁的外表面凹进并延伸到所述端部的至少一侧。

22.如权利要求21所述的系统，其中所述基部延伸到所述端部的三侧。

23.如权利要求21所述的系统，其中所述基部延伸到所述端部的三侧，并且其中所述基部通过完全遮蔽所述端部而形成。

24.如权利要求21所述的系统，其中所述通道被制成锥形，并具有朝向所述基部区逐渐变窄的宽度。