[发明专利]光反射基材用材料、光反射基材和使用该基材的发光设备有效
| 申请号： | 201180018245.1 | 申请日： | 2011-04-05 |
| 公开（公告）号： | CN102834746A | 公开（公告）日： | 2012-12-19 |
| 发明（设计）人： | 马屋原芳夫 | 申请（专利权）人： | 日本电气硝子株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;C03C10/02;F21V7/22 |
| 代理公司： | 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 | 代理人： | 陈波;朱弋 |
| 地址： | 日本滋贺*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反射 基材 用材 使用 发光 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种光反射基材用材料，其特征在于，作为组成，含有Nb2O5结晶粉末和实质上不含CaO的玻璃粉末。
2.如权利要求1所述的光反射基材用材料，其特征在于，Nb2O5结晶粉末的含量在0.3质量%以上、低于5质量%。
3.如权利要求1或2所述的光反射基材用材料，其特征在于，玻璃粉末至少含有SiO2和B2O3作为其组成。
4.如权利要求1～3中任一项所述的光反射基材用材料，其特征在于，还含有选自氧化铝、石英、氧化锆、氧化钛、镁橄榄石、堇青石、富铝红柱石、锆石中的至少1种陶瓷粉末。
5.如权利要求4所述的光反射基材用材料，其特征在于，所述陶瓷粉末的含量为0.1～75质量%。
6.如权利要求1～5中任一项所述的光反射基材用材料，其特征在于，光反射基材用材料为片状生坯。
7.一种光反射基材，其特征在于，由光反射基材用材料的烧结体形成，所述光反射基材用材料为权利要求1～6中任一项所述的光反射基材用材料。
8.一种光反射基材，其特征在于，通过实质不含CaO作为其组成的玻璃基体中分散Nb2O5结晶而成。
9.如权利要求7或8所述的光反射基材，其特征在于，在波长400～800nm下的平均光反射率在80%以上。
10.一种发光设备，其特征在于，使用权利要求7～9中任一项所述的光反射基材。
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