[发明专利]玻璃硬盘基板用研磨液组合物

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃硬盘基板用研磨液组合物、玻璃硬盘基板的制造方法以及玻璃硬盘基板的研磨方法。

背景技术

硬盘驱动器因高速旋转而功耗高，近年来从对环境的顾虑方面来看也已成为重大问题，要求低功耗化。为了降低功耗，有如下的方法：增大每一张硬盘的记录容量，并减少搭载于驱动器的硬盘的张数，使其轻量化。为了使每张基板的记录容量提高，需要缩减单位记录面积。但是，在缩减记录面积时会产生磁信号变弱的问题。因此，为了提高磁信号的检测灵敏度，正在开发进一步减小磁头的浮动高度的技术。在硬盘基板的研磨中，为了对应上述磁头的低浮动化而对表面粗糙度等平滑性、减少残留物等缺陷的要求变严格。针对这样的要求，提出了一种含有丙烯酸/磺酸共聚物的研磨液组合物(例如，参照专利文献1)。

另外，为了降低制造时的成本，提出了如下的被称为循环研磨的方法，即，在玻璃硬盘基板的精研磨工序中，将所使用的研磨液再次投入研磨机中，使研磨液连续地循环而再利用(例如，参照专利文献2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-191696号公报

专利文献2：日本特开2007-245265号公报

发明内容

发明要解决的问题

为了实现硬盘驱动器的进一步大容量化，仅仅是利用以往的研磨液组合物来降低表面粗糙度是不够的，需要进一步减少研磨后基板表面的残留物。另外，需要在维持高生产率的同时，进一步减少研磨后基板表面的缺陷。

另外，使用以往的研磨液组合物进行长时间循环研磨时，存在研磨速度逐渐降低的问题，需要进一步改善研磨液组合物在循环研磨中的耐久性。

本发明提供玻璃硬盘基板用研磨液组合物、以及使用该研磨液组合物的玻璃硬盘基板的制造方法及玻璃硬盘基板的研磨方法，所述玻璃硬盘基板用研磨液组合物能在循环研磨中长时间维持研磨速度的情况下进行研磨，即，能进行研磨速度的降低得到抑制的循环研磨，并且能实现高清洁性和高研磨速度。

用于解决问题的手段

本发明涉及一种玻璃硬盘基板用研磨液组合物，其为含有胺化合物、酸、二氧化硅粒子和水的玻璃硬盘基板用研磨液组合物，其中，所述胺化合物选自由氨基醇、以及哌嗪及其衍生物组成的组，该胺化合物的分子内具有2个或3个氮原子，其中至少1个是伯胺或者仲胺。

作为其他实施方式，本发明涉及包括使用本发明的玻璃硬盘基板用研磨液组合物对玻璃硬盘基板进行循环研磨的工序的玻璃硬盘基板的制造方法、以及玻璃基板的研磨方法。

发明效果

根据本发明，能够提供实现研磨后的基板表面的高清洁性、能以高研磨速度进行研磨、且能够在循环研磨中维持高研磨速度的玻璃硬盘基板用研磨液组合物，使用其的玻璃硬盘基板的制造方法以及玻璃硬盘基板的研磨方法。

具体实施方式

本发明基于如下见解：在使用以往的研磨液组合物的玻璃硬盘基板的循环研磨中研磨速度降低的原因之一为，在研磨后为了再利用而回收的研磨液组合物的pH值增大。进而，本发明还基于如下见解：通过形成组合有氨基醇、以及哌嗪及其衍生物等规定的胺化合物、酸和二氧化硅粒子的研磨液组合物，能够抑制研磨后回收的研磨液组合物的pH值变化，并且能在研磨中兼顾优异的清洁性和研磨速度。

即，本发明涉及一种玻璃硬盘基板用研磨液组合物(以下也称为“本发明的研磨液组合物”。)，其含有胺化合物、酸、二氧化硅粒子和水，所述胺化合物选自由氨基醇、以及哌嗪及其衍生物组成的组，该胺化合物的分子内具有2个或3个氮原子，其中至少一个是伯胺或仲胺。根据本发明的研磨液组合物，实现研磨后的基板表面的高清洁性，能够以高研磨速度进行研磨，而且能够在循环研磨中维持研磨速度。

[清洁性]

本说明书中，清洁性是指除去研磨工序中残留在基板表面的物质的性能。作为研磨后残留在基板表面的物质，例如可以列举出：磨粒、研磨中产生的研磨碎屑、研磨垫的碎屑、不锈钢等研磨机所使用的部件等。如果使用本发明的研磨液组合物进行研磨，则研磨后基板表面的清洁性提高，能减小磁头的浮动高度，可增大玻璃硬盘基板的记录容量。

[循环研磨中的耐久性]