[发明专利]用于电子材料的清洁液组合物

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于平板显示器(FPD)的基板的清洁液组合物，该平板显示器包括液晶显示器、等离子体显示器、柔性显示器等。本申请要求2010年5月19日递交的韩国专利申请第10-2010-0046886号的权益，在此其全部内容通过引用并入本申请中。

背景技术

如同半导体装置一样，通常由液晶显示器代表的FPD通过膜形成、曝光、线路蚀刻等制造。在这些步骤中，诸如各种有机或无机材料等尺寸不大于1μm的颗粒，本身可能附着在基板表面上，造成基板污染。如果基板以其上附着有这种污染物的状态进行后续步骤，可能存在膜的针孔或坑、以及线路的切断或桥接，大大地降低产品的生产率。因此在各个步骤之间进行用于除去污染物的清洁步骤，为此引入各种清洁液。

韩国专利申请第10-2008-7003568号公开一种用于半导体装置的清除剂组合物，该组合物包含有机胺、有机膦酸、线形糖醇，及其余为水。然而，所述清除剂有限地用于半导体装置，因此难以应用于各种领域。此外，所述清除剂不能防止由铜(Cu)和Cu合金制成的线路被腐蚀，因此难以应用于包括由Cu或Cu合金制成的线路的FPD装置。

韩国专利第10-0503231号公开一种能够防止诸如铝(Al)、Cu等用于半导体和TFT-LCD的金属被腐蚀的清洁剂组合物，该清洁剂组合物包含特定的烷醇胺化合物、有机溶剂、螯合化合物、非离子型表面活性剂、及水。然而，该清洁剂组合物存在问题，因为在除去有机污染物和颗粒的能力方面，使用仅烷醇胺和有机溶剂的组合不理想，并且另外邻苯二酚或五倍子酸，其为基于聚羟基苯的螯合化合物，长期使用时可能造成沉积问题。

韩国专利申请第10-2006-7015165号公开一种用于半导体装置的基板清洁液，该基板清洁液包含有机酸、有机碱组分、表面活性剂、及水，且pH为1.5至小于6.5。然而，因为所述清洁液为酸性溶液，在起始清洁阶段不足以除去不大于1μm的非常小的有机或无机颗粒。

发明内容

因此本发明已切记相关技术遇到的上述问题，本发明的一个目的是提供一种清洁液组合物，所述清洁液组合物除去在制造FPD期间污染玻璃基板或金属层的有机污染物或颗粒的能力高，并且防止在FPD的基板上形成的Al、Al合金、Cu、Cu合金等金属线路腐蚀的能力高。

本发明的一个方面为提供一种清洁液组合物，基于组合物的总重量，包含0.05～20wt％碱性化合物、0.1～40wt％水溶性极性有机溶剂、0.01～10wt％有机磷酸化合物、0.01～10wt％聚羧酸类共聚物、0.001～10wt％烷醇胺盐、0.001～10wt％唑类化合物以及其余的水。

本发明的另一方面为提供一种制造用于液晶显示器的阵列基板的方法，所述方法包括使用上述清洁液组合物清洁基板。

本发明提供一种用于半导体装置的清洁液组合物。根据本发明，所述清洁液组合物能表现出从用于FPD的玻璃基板或金属层的表面除去有机污染物的高能力，且还表现出防止在基板上形成的由Al、Al合金、Cu、Cu合金等制成的金属线路腐蚀的高能力。此外，所述清洁液组合物包含大量的水，因此易于处理且环境友好。

附图说明

图1示出被有机污染物中的有机毡尖笔标记污染的玻璃基板在清洁前的照片；

图2示出被有机毡尖笔标记污染的玻璃基板在使用实施例4的清洁液组合物在清洁后的照片；

图3示出被其他有机污染物中的人的指纹污染的玻璃基板在清洁前的照片；以及

图4示出被指纹污染的玻璃基板在使用实施例4的清洁液组合物在清洁后的照片。

具体实施方式

根据本发明，一种清洁液组合物，基于组合物的总重量，包含0.05～20wt％碱性化合物、0.1～40wt％水溶性极性有机溶剂、0.01～10wt％有机磷酸化合物、0.01～10wt％聚羧酸类共聚物、0.001～10wt％烷醇胺盐、0.001～10wt％唑类化合物和其余的水。