[发明专利]晶体半导体材料的制备有效
申请号: | 201180019046.2 | 申请日: | 2011-04-11 |
公开(公告)号: | CN103038004A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | U·克拉特;C·施密德;J·哈恩 | 申请(专利权)人: | 施米德硅晶片科技有限责任公司 |
主分类号: | B22D27/04 | 分类号: | B22D27/04;C01B33/02;C30B15/00;C30B29/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 石克虎;林森 |
地址: | 德国弗罗*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶体 半导体材料 制备 | ||
1.制造晶体半导体材料特别是晶体硅的方法,包括以下步骤:
·向气流中供送半导体材料的颗粒和/或半导体材料的前体化合物,其中,所述气流具有足够高的温度,以将半导体材料的颗粒由固态转变成液态和/或气态,和/或以将所述前体化合物热分解,
·从所述气流中冷凝出和/或分离出液态半导体材料,
·将液态半导体材料转变成固态,形成单晶或多晶晶体结构。
2.根据权利要求1的方法,其特征在于,向熔体供送液态半导体材料,从所述熔体中提拉半导体材料的单晶。
3.根据权利要求1的方法,其特征在于,所述液态半导体材料经历定向凝固。
4.根据权利要求1的方法,其特征在于,对所述液态半导体材料以连续铸造法进行处理。
5.根据权利要求1的方法,其特征在于,向设置在加热区域中的熔体供送液态半导体材料,所述熔体通过自身降低和/或通过升高所述加热区域如此冷却:使得在熔体下端,形成半导体材料以单晶结构沿着其进行结晶的凝固前沿。
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