[发明专利]氧化铈-氧化锆基复合氧化物,其制备方法,和使用该氧化铈-氧化锆基复合氧化物用于废气净化的催化剂无效
申请号: | 201180019058.5 | 申请日: | 2011-04-12 |
公开(公告)号: | CN103038175A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 森川彰;山村佳惠;须田明彦;高桥直树;久野央志;信川建;千叶明哉;藤井龙太 | 申请(专利权)人: | 丰田自动车株式会社;株式会社科特拉 |
主分类号: | C01G25/00 | 分类号: | C01G25/00;B01J23/10;C01F17/00;C04B35/488 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 彭飞;林柏楠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化 氧化锆 复合 氧化物 制备 方法 使用 用于 废气 净化 催化剂 | ||
1.氧化铈-氧化锆基复合氧化物,其包含氧化铈和氧化锆的复合氧化物,其中:
所述复合氧化物中铈与锆的含量比以摩尔比计([铈]∶[锆])在43∶57至48∶52的范围内,和
在2θ=14.5°的衍射线与在2θ=29°的衍射线的强度比{I(14/29)值}和在2θ=28.5°的衍射线与在2θ=29°的衍射线的强度比{I(28/29)值}分别满足下述条件:
I(14/29)值≥0.015,和
I(28/29)值≤0.08,
其中所述强度比是由通过在空气中在1100℃的温度条件下加热5小时后使用CuKα的X射线衍射测量而获得的X射线衍射图计算的。
2.根据权利要求1的氧化铈-氧化锆基复合氧化物,其中在所述复合氧化物中形成具有铈离子和锆离子的有序排列结构的晶相。
3.根据权利要求1和2任一项的氧化铈-氧化锆基复合氧化物,其中在扫描电子显微镜的视场(500×的放大率)中被颗粒占据的面积的百分比的平均值是50%或更多。
4.根据权利要求1至3任一项的氧化铈-氧化锆基复合氧化物,其中在扫描电子显微镜的视场(500×的放大率)中晶粒直径的平均值(数基平均值)是2.2至4.5μm。
5.制备包含氧化铈和氧化锆的复合氧化物的氧化铈-氧化锆基复合氧化物的方法,该方法包括下述步骤:
在400至3500kgf/cm2的压力将氧化铈-氧化锆固溶体粉末压缩-模塑,所述氧化铈-氧化锆固溶体粉末中铈与锆的含量比以摩尔比计([铈]∶[锆])在43∶57至48∶52的范围内,然后在1450至2000℃的温度条件下进行还原处理,由此获得所述氧化铈-氧化锆基复合氧化物。
6.根据权利要求5的制备氧化铈-氧化锆基复合氧化物的方法,在还原处理后进一步包括下述步骤:
对所述氧化铈-氧化锆基复合氧化物进行氧化处理。
7.根据权利要求5和6任一项的制备氧化铈-氧化锆基复合氧化物的方法,其中:
在2θ=14.5°的衍射线与在2θ=29°的衍射线的强度比{I(14/29)值}和在2θ=28.5°的衍射线与在2θ=29°的衍射线的强度比{I(28/29)值}分别满足下述条件:
I(14/29)值≥0.015,和
I(28/29)值≤0.08,
其中所述强度比是由通过在空气中在1100℃的温度条件下将所述氧化铈-氧化锆复合氧化物加热5小时后使用CuKα的X射线衍射测量而获得的X射线衍射图计算的。
8.根据权利要求5至7任一项的制备氧化铈-氧化锆基复合氧化物的方法,其中在所述复合氧化物中形成具有铈离子和锆离子的有序排列结构的晶相。
9.根据权利要求5至8任一项的制备氧化铈-氧化锆基复合氧化物的方法,其中在扫描电子显微镜的视场(500×的放大率)中所述氧化铈-氧化锆基复合氧化物具有50%或更多的被颗粒占据的面积的百分比平均值。
10.根据权利要求5至9任一项的制备氧化铈-氧化锆基复合氧化物的方法,其中在扫描电子显微镜的视场(500×的放大率)中所述氧化铈-氧化锆基复合氧化物具有2.2至4.5μm的晶粒直径的平均值(数基平均值)。
11.用于废气净化的催化剂,包含根据权利要求1至4任一项的氧化铈-氧化锆基复合氧化物。
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