[发明专利]光学元件

权利要求书

1.一种光学元件，其特征在于，

上述光学元件的至少一部分上具有微小凹凸构造，该微小凹凸构造含有使棱线部呈网眼状连续的凸部以及被上述凸部包围的多个凹部，上述棱线部的至少一部分在上述凹部的深度方向上形成为比该棱线部交叉而成的棱线交点部深。

2.根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，

上述凹部的最深的凹部最深部形成为比上述棱线部的最深的棱线部最深部深。

3.根据权利要求1或2所述的光学元件，其特征在于，

在上述微小凹凸构造中，在连结相邻的两个上述棱线交点部的方向上相邻的两个上述凹部的中心部的距离最大值比可见光波长小。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学元件，其特征在于，

上述微小凹凸构造形成为，上述凹部的形状及大小中的至少一者随机生成。

5.一种防反射构造，其特征在于，

上述防反射构造由微小凹凸构造构成，该微小凹凸构造含有使棱线部呈网眼状连续的凸部以及被上述凸部包围的多个凹部，上述棱线部的至少一部分在上述凹部的深度方向上形成为比该棱线部交叉而成的棱线交点部深。

6.根据权利要求5所述的防反射构造，其特征在于，

上述凹部的最深的凹部最深部形成为比上述棱线部的最深的棱线部最深部深。

7.根据权利要求5或6所述的防反射构造，其特征在于，

在上述微小凹凸构造中，在连结相邻的两个上述棱线交点部的方向上相邻的两个上述凹部的中心部的距离最大值比可见光波长小。

8.根据权利要求5所记载的防反射构造，其特征在于，

上述微小凹凸构造形成为，上述凹部的形状及大小中的至少一者随机生成。

9.一种光学元件的制造方法，其特征在于，

该光学元件的制造方法包含以下工序：

利用具有多个开口的掩模来覆盖光学表面；

利用各向同性的蚀刻在上述光学表面的与上述开口对应的部分上形成多个凹部；以及

在包围上述凹部且使棱线部呈网眼状连续的凸部中进一步进行蚀刻，以使得上述棱线部的至少一部分在上述凹部的深度方向上形成为比该棱线部交叉而成的棱线交点部深。

10.根据权利要求9所述的光学元件的制造方法，其特征在于，

以上述凹部的最深的凹部最深部比上述棱线部的最深的棱线部最深部深的方式进行蚀刻。

11.根据权利要求9或10所记载的光学元件的制造方法，其特征在于，

在连结相邻的两个上述棱线交点部的方向上相邻的两个上述凹部的中心部的距离的最大值比可见光波长小。

12.根据权利要求9所记载的光学元件的制造方法，其特征在于，

上述微小凹凸构造形成为，上述凹部的形状及大小中的至少一者随机生成。