[发明专利]具有内部纳米结构和外部微结构的OLED光提取膜

权利要求书

1.一种光提取膜，具有内部纳米结构和外部微结构，所述光提取膜包括：

大体透明的柔性膜；

低折射率纳米结构化层，所述低折射率纳米结构化层施加到所述大体透明的柔性膜上；

高折射率平面化回填层，所述高折射率平面化回填层施加到所述纳米结构化层上；以及

外部光学微结构，所述外部光学微结构在与所述纳米结构化层相背的一侧上施加到所述大体透明的柔性膜上。

2.根据权利要求1所述的光提取膜，其中所述外部光学微结构包括一维微结构。

3.根据权利要求1所述的光提取膜，其中所述外部光学微结构包括二维微结构。

4.根据权利要求1所述的光提取膜，其中纳米结构化层包括一维纳米结构，且所述外部光学微结构包括与所述一维纳米结构正交的一维微结构。

5.根据权利要求4所述的光提取膜，其中所述一维纳米结构和所述一维微结构各自为直线结构。

6.根据权利要求1所述的光提取膜，其中所述低折射率纳米结构化层包括纳米粒子，所述纳米粒子以表面层方式施加到所述大体透明的柔性膜上。

7.根据权利要求1所述的光提取膜，其中所述低折射率纳米结构化层包括光子晶体结构或直线光栅。

8.根据权利要求1所述的光提取膜，还包括保护层，所述保护层施加到所述回填层上。

9.根据权利要求1所述的光提取膜，其中所述外部光学微结构包括微透镜阵列。

10.根据权利要求1所述的光提取膜，其中所述外部光学微结构包括曲线边锥结构。

11.一种用于制备具有内部纳米结构和外部微结构的光提取膜的方法，所述方法包括：

提供大体透明的柔性膜；

将低折射率纳米结构化层施加到所述大体透明的柔性膜上；

将高折射率平面化回填层施加到所述纳米结构化层上；以及

在与所述纳米结构化层相背的一侧上将外部光学微结构施加到所述大体透明的柔性膜上。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述外部光学微结构包括一维微结构。

13.根据权利要求11所述的方法，其中所述外部光学微结构包括二维微结构。

14.根据权利要求11所述的方法，其中纳米结构化层包括一维纳米结构，且所述外部光学微结构包括与所述一维纳米结构正交的一维微结构。

15.根据权利要求11所述的方法，还包括将保护层施加到所述回填层的上。

16.根据权利要求11所述的方法，其中所述纳米结构化层和所述外部光学微结构包含在两个层合在一起的膜内。

17.根据权利要求11所述的方法，其中所述纳米结构化层和所述外部光学微结构使用顺次微复制工艺形成。

18.根据权利要求11所述的方法，其中所述纳米结构化层和所述外部光学微结构使用两个结构化和同步化工具在单个微复制工艺中形成。

19.根据权利要求11所述的方法，其中所述纳米结构化层和所述外部光学微结构使用挤出工艺形成。

20.根据权利要求11所述的方法，其中所述纳米结构化层和所述外部光学微结构各自使用激光烧蚀工艺形成。