[发明专利]取向处理方法及取向处理装置

权利要求书

1.一种取向处理方法，其特征在于，

使涂敷了取向膜的基板与具有第一掩模图案组和第二掩模图案组的光掩模靠近对置，并使所述基板在与所述第一及第二掩模图案组交叉的方向上移动，所述第一掩模图案组以一定的排列间距形成了细长状的多个开口，第二掩模图案组与该第一掩模图案组平行地设置，且以与所述多个开口的排列间距相同的间距形成了细长状的多个开口，

对所述光掩模的第一及第二掩模图案组分别照射偏振方向和入射角度当中的至少一个为不同的偏振光，

在所述取向膜上交替地形成取向状态不同的条纹状的第一及第二取向区域。

2.根据权利要求1所述的取向处理方法，其特征在于，

所述光掩模的所述第一掩模图案组是以一定的排列间距在与所述基板的移动方向交叉的方向上形成在所述基板的移动方向上呈细长状的多个开口，

所述第二掩模图案组在所述基板的移动方向上与所述第一掩模图案组间隔一定的距离并与该第一掩模图案组平行地设置，所述第二掩模图案组以与所述多个开口的排列间距相同的间距且在排列方向上错开一半间距地形成在所述基板的移动方向上呈细长状的多个开口，

在与所述基板的移动方向交叉的方向上交替地形成与所述基板的移动方向平行的条纹状的所述第一及第二取向区域。

3.根据权利要求1所述的取向处理方法，其特征在于，所述光掩模的所述第一及第二掩模图案组以一定的排列间距在所述基板的移动方向上分别形成在与所述基板的移动方向交叉的方向上呈细长状的多个开口，且所述第一及第二掩模图案组在所述基板的移动方向上相互间隔所述排列间距的一半间距的整数倍的距离并相互平行地设置，

每当所述基板移动与所述排列间距相等的距离，就间歇性地照射所述偏振光以在所述基板的移动方向上交替地形成与所述基板的移动方向交叉的条纹状的所述第一及第二取向区域。

4.根据权利要求1所述的取向处理方法，其特征在于，对所述光掩模的第一及第二掩模图案组照射的所述各偏振光均为P偏振光，入射角度分别是不同的。

5.根据权利要求1所述的取向处理方法，其特征在于，对所述光掩模的第一及第二掩模图案组照射的所述各偏振光，一束为P偏振光，另一束为S偏振光。

6.一种取向处理装置，其特征在于，包括：

输送单元，其将涂敷了取向膜的基板载置于上表面并使该基板朝一定的方向移动；

掩模台，其对具有第一掩模图案组和第二掩模图案组的光掩模进行保持，所述第一掩模图案组与所述输送单元的上表面对置、并以一定的排列间距形成了细长状的多个开口，第二掩模图案组与该第一掩模图案组平行地设置、并以与所述多个开口的排列间距相同的间距形成了细长状的多个开口；以及

偏振光学系统，其对所述光掩模的所述第一及第二掩模图案组分别照射偏振方向及入射角度当中的至少一个为不同的偏振光，

能够在所述取向膜上交替形成取向状态不同的条纹状的第一及第二取向区域。

7.根据权利要求6所述的取向处理装置，其特征在于，所述光掩模的所述第一掩模图案组以一定的排列间距在与所述基板的移动方向交叉的方向形成在所述基板的移动方向上呈细长状的多个开口，

所述第二掩模图案组在与所述基板的移动方向上与所述第一掩模图案组间隔一定的距离，且与所述第一掩模图案组相平行，所述第二掩模图案组以与所述多个开口的排列间距相同的间距且在排列方向上错开一半间距地形成在所述基板的移动方向上呈细长状的多个开口，

能够在与所述基板的移动方向交叉的方向上交替地形成与所述基板的移动方向平行的条纹状的所述第一及第二取向区域。

8.根据权利要求6所述的取向处理装置，其特征在于，所述光掩模的所述第一及第二掩模图案组分别以一定的排列间距在所述基板的移动方向上形成在与所述基板的移动方向交叉的方向上呈细长状的多个开口，且所述第一及第二掩模图案组在所述基板的移动方向上相互间隔所述排列间距的一半间距的整数倍的距离并相互平行地设置，

每当所述基板移动与所述排列间距相等的距离，就间歇性地照射所述偏振光以能够在所述基板的移动方向上交替地形成与所述基板的移动方向交叉的条纹状的所述第一及第二取向区域。