[发明专利]喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物、显示元件用层间绝缘膜及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201180021053.6 申请日: 2011-03-22
公开(公告)号: CN102870045A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 一户大吾 申请(专利权)人: JSR株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;C08F220/28;G03F7/039;G03F7/40;H01L21/027
代理公司: 北京三幸商标专利事务所 11216 代理人: 刘激扬
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 喷出 喷嘴式 涂布法用正型 射线 敏感性 组合 显示 元件 用层间 绝缘 及其 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物,其含有:

[A]在同一或不同的聚合物分子中具有含下述式(1)所示的基团的结构单元(I)与含环氧基的结构单元的聚合物、

[B]由肟磺酸酯化合物及鎓盐化合物所组成的群中选出的至少一种化合物、及

[C]有机溶剂,其中,

该组合物的固体成分浓度为10质量%以上30质量%以下,在25℃的粘度为2.0mPa·s以上12mPa·s以下,而且,

作为[C]有机溶剂,至少含有(C1)在20℃的蒸气压为0.1mmHg以上且低于1mmHg的有机溶剂,

(式(1)中,R1及R2各自独立地为氢原子、烷基、环烷基或芳基;其中,上述烷基、环烷基或芳基所具有的一部分或全部氢原子可被取代;又,不存在R1及R2同时为氢原子的情况;R3为烷基、环烷基、芳烷基、芳基或-M(R3m)3所示的基团,其中这些基团所具有的一部分或全部氢原子可被取代;M为Si、Ge或Sn;R3m为烷基;其中,R1与R3可连接,可与所键结的碳原子一起形成环状醚)。

2.如权利要求1所述的喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物,其中[C]有机溶剂进一步含有(C2)在20℃的蒸气压为1mmHg以上20mmHg以下的有机溶剂,

相对于(C1)有机溶剂及(C2)有机溶剂的合计量,(C2)有机溶剂的含量为10质量%以上90质量%以下。

3.如权利要求1所述的喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物,其中[C]有机溶剂进一步含有(C2)在20℃的蒸气压为1mmHg以上20mmHg以下的有机溶剂,

相对于(C1)有机溶剂及(C2)有机溶剂的合计量,(C2)有机溶剂的含量为10质量%以上50质量%以下。

4.如权利要求1所述的喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物,其进一步含有[D]由氟类表面活性剂及聚硅氧烷类表面活性剂所组成的群中选出的至少一种表面活性剂,

相对于[A]聚合物100质量份,[D]表面活性剂的含量为0.01质量份以上2质量份以下。

5.如权利要求1所述的喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物,其进一步含有[E]多官能(甲基)丙烯酸酯化合物。

6.如权利要求1所述的喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物,其进一步含有[F]抗氧化剂。

7.如权利要求1所述的喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物,其进一步含有[G]在1分子中具有2个以上环氧基的化合物。

8.如权利要求1所述的喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物,其中(C1)有机溶剂为由二乙二醇乙基甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二丙二醇二甲基醚、苯甲醇、二丙二醇单甲基醚所组成的群中选出的至少一种有机溶剂。

9.如权利要求2所述的喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物,其中(C2)有机溶剂为由二乙二醇二甲基醚、乙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇单乙基醚乙酸酯、乙二醇单丙基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、环己酮、乙酸正丁酯、甲基异丁基酮、3-甲氧基丙酸甲酯所组成的群中选出的至少一种有机溶剂。

10.一种显示元件用层间绝缘膜,其由权利要求1所述的喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物所形成。

11.一种显示元件用层间绝缘膜的形成方法,其具有:

(1)一边使喷出喷嘴与基板相对地移动,一边将权利要求1所述的喷出喷嘴式涂布法用正型射线敏感性组合物涂布于基板上,形成涂膜的工序,

(2)对上述所形成的涂膜的至少一部分照射射线的工序,

(3)将经上述射线照射后的涂膜显影的工序,及

(4)将经上述显影后的涂膜加热的工序。

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