[发明专利]具有流体分离特性的封闭室有效
申请号: | 201180023556.7 | 申请日: | 2011-05-02 |
公开(公告)号: | CN102893372A | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
发明(设计)人: | 安德烈亚斯·格莱斯纳;赖纳·奥博威格 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/683 |
代理公司: | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人: | 李献忠 |
地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 奥地利;AT |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 流体 分离 特性 封闭 | ||
1.用于处理晶片状物件的设备,包括封闭式处理室、位于所述封闭式处理室内的环状卡盘、以及穿过所述封闭式处理室的底壁与所述封闭式处理室外面流体连通的至少一个处理流体收集器,其中所述环状卡盘适于在没有物理接触的情况下通过磁轴承驱动,且其中所述环状卡盘和所述至少一个处理流体收集器相对于彼此能竖直移动。
2.根据权利要求1所述的设备,其中所述环状卡盘被安装在竖直方向上且所述至少一个处理流体收集器包括能竖直移动的防溅罩。
3.根据权利要求2所述的设备,包括多个流体收集器,每一个流体收集器包括能竖直移动的防溅罩。
4.根据权利要求3所述的设备,其中每一个能竖直移动的防溅罩自所述封闭式处理室外面被选择性地驱动至预先确定的竖直位置。
5.根据权利要求4所述的设备,其中每一个能竖直移动的防溅罩能被选择性地定位以便获取来自由所述环状卡盘承载的旋转晶片的预先选定的处理流体。
6.根据权利要求5所述的设备,进一步包括具操作性地关联于每一个能竖直移动的防溅罩的竖直移动致动器。
7.根据权利要求6所述的设备,其中所述致动器通过磁耦合具操作性地关联于所述能竖直移动的防溅罩。
8.根据权利要求1所述的设备,其中所述至少一个处理流体收集器被安装在竖直方向上且所述环状卡盘包括能竖直移动的有源磁轴承。
9.根据权利要求8所述的设备,包括多个流体收集器,所述能竖直移动的有源磁轴承包括位于所述封闭式处理室外面的能竖直移动的定子。
10.根据权利要求9所述的设备,其中所述能竖直移动的有源磁轴承能被选择性地定位使得来自由所述环状卡盘承载的旋转晶片的预先选定的处理流体被导向预先选定的流体收集器。
11.根据权利要求10所述的设备,进一步包括具操作性地关联于所述定子的竖直移动致动器。
12.根据权利要求11所述的设备,其中所述竖直移动致动器通过磁耦合具操作性地关联于所述定子。
13.根据权利要求1所述的设备,其中所述磁轴承是有源磁轴承。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造